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中國(guó)金獎(jiǎng)專利戰(zhàn)實(shí)錄:依法保護(hù)發(fā)明貢獻(xiàn),堅(jiān)決捍衛(wèi)中國(guó)創(chuàng)新

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中國(guó)金獎(jiǎng)專利戰(zhàn)實(shí)錄:依法保護(hù)發(fā)明貢獻(xiàn),堅(jiān)決捍衛(wèi)中國(guó)創(chuàng)新

中國(guó)金獎(jiǎng)專利戰(zhàn)實(shí)錄:依法保護(hù)發(fā)明貢獻(xiàn),堅(jiān)決捍衛(wèi)中國(guó)創(chuàng)新

#文章僅代表作者觀點(diǎn),不代表IPRdaily立場(chǎng)#


來(lái)源:IPRdaily中文網(wǎng)(IPRdaily.cn)

作者:何倫健  哈達(dá)  華進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)

原標(biāo)題:中國(guó)金獎(jiǎng)專利戰(zhàn)實(shí)錄:依法保護(hù)發(fā)明貢獻(xiàn),堅(jiān)決捍衛(wèi)中國(guó)創(chuàng)新


中國(guó)科技創(chuàng)新企業(yè)走向全球化發(fā)展的道路上,必須要重視高質(zhì)量的專利布局,認(rèn)真應(yīng)對(duì)專利訴訟無(wú)效。只有優(yōu)質(zhì)創(chuàng)新加上強(qiáng)有力的知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù),才能夠幫助企業(yè)贏得創(chuàng)新發(fā)展新機(jī)遇。在面向新時(shí)代發(fā)展背景下,中國(guó)企業(yè)在不斷創(chuàng)新謀求發(fā)展的同時(shí),需要越來(lái)越多經(jīng)得起檢驗(yàn)的高質(zhì)量專利保駕護(hù)航。


引言


目前,我國(guó)高端醫(yī)療設(shè)備市場(chǎng)主要被西門子等國(guó)外企業(yè)所占據(jù),但是,中國(guó)民族企業(yè)上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司(下稱專利權(quán)人)通過(guò)自主創(chuàng)新,打破了高端醫(yī)療設(shè)備產(chǎn)業(yè)數(shù)十年由國(guó)外企業(yè)壟斷的局面,改寫了國(guó)內(nèi)高端醫(yī)療設(shè)備技術(shù)發(fā)展及產(chǎn)品定價(jià)受制于跨國(guó)公司的不利局面,從而更好地圓百姓的“健康夢(mèng)”,真正惠及天下大眾,同時(shí),不可避免動(dòng)了跨國(guó)公司的奶酪。為抵擋專利權(quán)人的市場(chǎng)沖擊,西門子對(duì)專利權(quán)人的專利主動(dòng)發(fā)起了無(wú)效。


本案涉案專利為201310072198.X、“平面回波成像序列圖像的重建方法”的發(fā)明專利(下稱本專利),是專利權(quán)人持有的平面回波成像技術(shù)方向的高價(jià)值核心專利,屬于磁共振成像的原創(chuàng)性技術(shù),并于2016年榮獲第十八屆中國(guó)專利獎(jiǎng)金獎(jiǎng)。


2016年11月30日,西門子(深圳)磁共振有限公司(下稱西門子)針對(duì)本專利向?qū)@麖?fù)審委員會(huì)提出了無(wú)效請(qǐng)求,主要理由包括獨(dú)立權(quán)利要求1等不具有新穎性。面對(duì)此挑戰(zhàn),專利權(quán)人高度重視,積極聯(lián)合專業(yè)的律師團(tuán)隊(duì)從容應(yīng)對(duì),贏得專利權(quán)維持全部有效的勝利。


一、案情回顧


1、主要爭(zhēng)議焦點(diǎn)


西門子認(rèn)為,證據(jù)1公開的磁共振信號(hào)的相位校正方法,在沒(méi)有相位編碼的條件下獲取三條參考回波信號(hào)S1+、S2-和S3+,所述三條參考回波信號(hào)分別為第一類型信號(hào)(相當(dāng)于偶信號(hào))、第二類型信號(hào)(相當(dāng)于奇信號(hào)),以及第一類型信號(hào)(相當(dāng)于偶信號(hào)),公開了K空間的行方向?yàn)樽x出方向,相當(dāng)于本專利中在行方向上將平面回波成像數(shù)據(jù)進(jìn)行傅利葉變換得到數(shù)據(jù),再對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行校正??梢?jiàn),證據(jù)1公開了本專利權(quán)利要求1的全部技術(shù)特征。因此,權(quán)利要求1相對(duì)于證據(jù)1不具有新穎性。


但專利權(quán)人認(rèn)為,本專利權(quán)利要求1限定了技術(shù)特征“同時(shí)采集三條沒(méi)有經(jīng)過(guò)相位編碼的參考回波信號(hào)R1、R2、R3”;“通過(guò)所述參考回波信號(hào)計(jì)算出需要對(duì)所述平面回波成像數(shù)據(jù)進(jìn)行校正的參數(shù)”。即權(quán)利要求1中是利用三條真實(shí)的參考回波來(lái)計(jì)算獲得校正參數(shù),而證據(jù)1中是利用兩條參考回波來(lái)計(jì)算校正參數(shù)。


對(duì)此,西門子認(rèn)為,不論是信號(hào)的預(yù)處理,或是將兩條同極性參考回波信號(hào)進(jìn)行平均后獲得一條信號(hào)都屬于“計(jì)算”的中間過(guò)程。因此,證據(jù)1公開了采用三條參考回波來(lái)計(jì)算獲得校正參數(shù)。


2、無(wú)效決定


無(wú)效決定認(rèn)為,本專利所述的“計(jì)算”為將原始采集的三條參考回波信號(hào)直接用于校正參數(shù)的計(jì)算。而證據(jù)1記載的技術(shù)方案為:在沒(méi)有相位編碼梯度的影響的情況下獲取兩條參考回波,即核磁共振信號(hào)S1+和S2-;測(cè)量第三參考回波S3+,該參考回波與第一參考回波S1+一樣在讀出梯度GR的正的子脈沖下被測(cè)量;通過(guò)第一參考回波S1+和第三參考回波S3+的合適的插值,確定一條虛擬的插值回波S2+;通過(guò)S2+和S2-兩條參考回波計(jì)算校正參數(shù)。因此,證據(jù)1與本專利權(quán)利要求1存在以下區(qū)別技術(shù)特征:本專利是通過(guò)原始采集的三條實(shí)際的參考回波信號(hào)直接計(jì)算出對(duì)所述平面回波成像數(shù)據(jù)進(jìn)行校正的參數(shù);而證據(jù)1中是“通過(guò)一條實(shí)際的參考回波S2-和一條虛擬的插值回波S2+來(lái)計(jì)算校正參數(shù)的”。


因此,本專利權(quán)利要求1相對(duì)于證據(jù)1具備新穎性,并在此基礎(chǔ)上維持本專利有效。


二、案件點(diǎn)評(píng)


權(quán)利要求的新穎性評(píng)述,首先是確定權(quán)利要求限定的技術(shù)方案是什么,即確定其保護(hù)范圍。其次,確定現(xiàn)有技術(shù)公開的技術(shù)內(nèi)容,具體公開了何種技術(shù)方案,何種技術(shù)特征。最后,將權(quán)利要求中的技術(shù)特征與現(xiàn)有技術(shù)中的相應(yīng)技術(shù)特征進(jìn)行比對(duì),確認(rèn)是否相同,即是否已經(jīng)被公開,進(jìn)而判斷技術(shù)方案整體是否具有新穎性。本案中,雙方當(dāng)事人對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)公開的內(nèi)容沒(méi)有異議,只是對(duì)權(quán)利要求1限定的技術(shù)方案是什么存在異議,并得出了完全不同的結(jié)論。


1、權(quán)利要求1的保護(hù)范圍的確定


本案中,將證據(jù)1與權(quán)利要求1進(jìn)行比對(duì),不難發(fā)現(xiàn),證據(jù)1中的確也采用了三條實(shí)際的參考回波來(lái)計(jì)算校正參數(shù);而權(quán)利要求1限定的也是采用三條實(shí)際的參考回波來(lái)計(jì)算校正參數(shù)。從文字含義來(lái)理解,兩者是相同的。因此,這里存在一個(gè)如何根據(jù)權(quán)利要求來(lái)確定其保護(hù)范圍的問(wèn)題。解決這一問(wèn)題的重點(diǎn)、難點(diǎn)在于對(duì)權(quán)利要求保護(hù)范圍的確定既要實(shí)現(xiàn)對(duì)專利權(quán)的充分保護(hù),又要為社會(huì)公眾提供足夠的法律確定性,維護(hù)其信賴?yán)妗?br/>


在以往的法律實(shí)踐中,經(jīng)歷了兩種比較極端的權(quán)利要求保護(hù)范圍確定方式。其一是“周邊限定論”,即權(quán)利要求的保護(hù)范圍完全由其文字內(nèi)容來(lái)確定。采用這種方式,有利于增強(qiáng)社會(huì)公眾對(duì)權(quán)利要求限定的保護(hù)范圍的法律確定性,方便規(guī)避侵權(quán)。但對(duì)于權(quán)利要求的撰寫質(zhì)量要求非常高,被訴侵權(quán)產(chǎn)品只要存在任何不同,就難以全面覆蓋構(gòu)成侵權(quán),因而不利于對(duì)發(fā)明創(chuàng)造提供充分有效的保護(hù)。其二是“中心限定論”,即以權(quán)利要求限定的創(chuàng)新點(diǎn)為中心,以說(shuō)明書及其附圖記載的內(nèi)容為半徑來(lái)確定保護(hù)范圍,而不限于權(quán)利要求的文字內(nèi)容。這種方式使得權(quán)利要求保護(hù)范圍的確定性較差,但對(duì)權(quán)利要求的抽象、概括要求不高,更有利于保護(hù)發(fā)明實(shí)質(zhì)貢獻(xiàn),對(duì)發(fā)明創(chuàng)造提供充分有效的保護(hù)。


上述兩種方式由于其固有的缺陷嚴(yán)重妨礙專利制度的正常運(yùn)作,已棄置不用,而以“折衷論”取而代之,即權(quán)利要求的保護(hù)范圍由其文字內(nèi)容確定,說(shuō)明書和附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容,以兼顧專利權(quán)的保護(hù)力度與權(quán)利確定性。


本案中,西門子主張,權(quán)利要求1限定了采用三條參考回波進(jìn)行校正參數(shù)的計(jì)算,也包括采用如證據(jù)1公開的采用三條參考回波的計(jì)算方法。這其實(shí)是又走到了“周邊限定論”的老路上去了。按照這種方式確定,得到的只是表面的、形式上的保護(hù)范圍,其中限定的技術(shù)方案與說(shuō)明書記載的發(fā)明構(gòu)思、技術(shù)手段嚴(yán)重脫節(jié)。


無(wú)效決定根據(jù)專利法第59條的規(guī)定,采用“折衷”的方式確定權(quán)利要求1的保護(hù)范圍,認(rèn)定“通過(guò)所述參考回波信號(hào)計(jì)算出需要對(duì)所述平面回波成像數(shù)據(jù)進(jìn)行校正的參數(shù)”其實(shí)質(zhì)上應(yīng)為“通過(guò)所述三條實(shí)際的參考回波信號(hào)直接計(jì)算出需要對(duì)所述平面回波成像數(shù)據(jù)進(jìn)行校正的參數(shù)”,不拘泥于權(quán)利要求的字面含義,充分揭示了本專利對(duì)現(xiàn)有技術(shù)作出的創(chuàng)造性貢獻(xiàn),對(duì)發(fā)明內(nèi)容的概括更為客觀,與發(fā)明做出的實(shí)質(zhì)貢獻(xiàn)更相符合,平衡了專利權(quán)人與社會(huì)公眾的利益,不失為對(duì)專利法第59條的經(jīng)典詮釋。


2、權(quán)利要求1中與證據(jù)1是否公開了權(quán)利要求1中的上述區(qū)別技術(shù)特征


權(quán)利要求的技術(shù)特征被對(duì)比文件公開,不僅要求該對(duì)比文件中包含有相應(yīng)的技術(shù)特征,還要求該相應(yīng)的技術(shù)特征在對(duì)比文件中所起的作用與其在權(quán)利要求中所起的作用相同。在準(zhǔn)確確定權(quán)利要求1的保護(hù)范圍的基礎(chǔ)上,復(fù)審委事實(shí)上從三個(gè)方面論述了其與證據(jù)1公開的技術(shù)方案之間的區(qū)別:


首先,技術(shù)特征所描述的技術(shù)手段本身不相同。根據(jù)本專利權(quán)利要求1以及說(shuō)明書的記載,權(quán)利要求1中是通過(guò)三條參考回波直接計(jì)算得到的校正參數(shù)(一次性偏差因子),并非只利用了其中的一條或兩條參考回波。同理,其他三條校正參數(shù)也是通過(guò)三條參考回波直接計(jì)算得到的。


而證據(jù)1中技術(shù)方案的整個(gè)計(jì)算流程是:


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可見(jiàn),如證據(jù)1明確記載的那樣,證據(jù)1中是采用的計(jì)算校正參數(shù)的計(jì)算方法,是對(duì)公知的、通過(guò)兩條參考回波S1+和S2-來(lái)計(jì)算校正參數(shù)的技術(shù)方案的局部改進(jìn)或微調(diào),其實(shí)質(zhì)上還是公知的、采用兩條參考回波(只不過(guò)此時(shí)換成了虛擬的S2+和S2-)分別單獨(dú)計(jì)算出對(duì)于讀出梯度的正的脈沖的一次項(xiàng)相位響應(yīng)和負(fù)的脈沖的一次項(xiàng)相位響應(yīng)兩個(gè)校正參數(shù),分別用于進(jìn)行圖像信號(hào)的一次項(xiàng)的校正,校正后的值Hij必須對(duì)于讀出梯度GR的正的和負(fù)的脈沖下的信號(hào)被單獨(dú)地考慮,即證據(jù)1利用單獨(dú)的兩條參考回波分別計(jì)算出各自的一次項(xiàng)校正參數(shù)后,再分別用于校正圖像數(shù)據(jù)的偶信號(hào)和奇信號(hào)。


其次,兩者執(zhí)行的功能不相同。盡管兩者都可以獲得對(duì)圖像偏差的校正參數(shù),但得到的參數(shù)并不相同。以獲得一次項(xiàng)偏差的校正參數(shù)為例,本專利獲得的參數(shù)只有一個(gè)(即一次項(xiàng)相位偏差中國(guó)金獎(jiǎng)專利戰(zhàn)實(shí)錄:依法保護(hù)發(fā)明貢獻(xiàn),堅(jiān)決捍衛(wèi)中國(guó)創(chuàng)新),并采用這一參數(shù)同時(shí)對(duì)圖像數(shù)據(jù)的奇偶信號(hào)進(jìn)行校正。而證據(jù)1中利用單獨(dú)的兩條參考回波分別計(jì)算得到的校正參數(shù)有兩個(gè)(即中國(guó)金獎(jiǎng)專利戰(zhàn)實(shí)錄:依法保護(hù)發(fā)明貢獻(xiàn),堅(jiān)決捍衛(wèi)中國(guó)創(chuàng)新中國(guó)金獎(jiǎng)專利戰(zhàn)實(shí)錄:依法保護(hù)發(fā)明貢獻(xiàn),堅(jiān)決捍衛(wèi)中國(guó)創(chuàng)新),再分別用于校正圖像數(shù)據(jù)的偶信號(hào)和奇信號(hào),即證據(jù)1中所述的“偶數(shù)行和奇數(shù)行,被單獨(dú)地考慮”。


第三,兩者產(chǎn)生的技術(shù)效果不相同。在本專利中,由于采集到的R1、R2、R3三條信號(hào)所承載的珍貴的信息資源,得到了完整的保留,并都被充分用于進(jìn)行傅利葉變換,從而計(jì)算出的消除偏差或偏移的校正參數(shù)更加精確。而證據(jù)1通過(guò)插值的方式虛擬一條極性相反、而其它性質(zhì)完全不變的信號(hào)S2+。這一過(guò)程中丟失了信號(hào)S1+和S3+的很多原始信息,又引入了新的不確定性。并且仍然沿用公知的、采用S1+和S2-兩參考回波的計(jì)算方法。由此也使得其獲得的校正參數(shù)是不完美的。


上述認(rèn)定從把握技術(shù)構(gòu)思出發(fā),分別從本專利與證據(jù)1要解決的技術(shù)問(wèn)題、技術(shù)手段、技術(shù)效果等方面對(duì)兩者計(jì)算校正參數(shù)的方法進(jìn)行了區(qū)分,揭示了兩種校正參數(shù)計(jì)算方法的實(shí)質(zhì)性差異,以及對(duì)圖像數(shù)據(jù)的偏移或偏差的校正效果的顯著不同,有力論證了本專利與證據(jù)1兩種技術(shù)方案之間存在的顯著區(qū)別,為權(quán)利要求1相對(duì)于證據(jù)1具有新穎性的結(jié)論打下了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。


本案中,面對(duì)西方強(qiáng)勢(shì)企業(yè)的挑戰(zhàn),中國(guó)企業(yè)從容應(yīng)對(duì)并取得關(guān)鍵勝利,表明中國(guó)企業(yè)創(chuàng)新實(shí)力和知識(shí)產(chǎn)權(quán)制度運(yùn)用能力正在邁向新臺(tái)階。在此,也提醒中國(guó)創(chuàng)新企業(yè),專利不是授權(quán)后就可以高枕無(wú)憂,如果授權(quán)質(zhì)量不可靠,無(wú)效應(yīng)對(duì)不當(dāng),授權(quán)專利也可能被無(wú)效。專利無(wú)效不僅僅是一項(xiàng)專利權(quán)的存亡問(wèn)題,很多時(shí)候其背后關(guān)系著一件專利侵權(quán)訴訟的成敗、一個(gè)商品能否上市、嚴(yán)重時(shí)影響到一個(gè)公司能否繼續(xù)在該領(lǐng)域生存發(fā)展。中國(guó)科技創(chuàng)新企業(yè)走向全球化發(fā)展的道路上,必須要重視高質(zhì)量的專利布局,認(rèn)真應(yīng)對(duì)專利訴訟無(wú)效。只有優(yōu)質(zhì)創(chuàng)新加上強(qiáng)有力的知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù),才能夠幫助企業(yè)贏得創(chuàng)新發(fā)展新機(jī)遇。在面向新時(shí)代發(fā)展背景下,中國(guó)企業(yè)在不斷創(chuàng)新謀求發(fā)展的同時(shí),需要越來(lái)越多經(jīng)得起檢驗(yàn)的高質(zhì)量專利保駕護(hù)航。



參考文獻(xiàn):

①崔國(guó)斌著,《專利法:原理與案例(第二版)》,北京大學(xué)出版社,2016年版,第589頁(yè);

②尹新天著,《中國(guó)專利法詳解》,2011年版,第557-559頁(yè);

③宋淑華、楊存吉,“權(quán)利要求的技術(shù)特征被對(duì)比文件公開的認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)”,載《人民司法》,2012年22卷。



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作者:何倫健   哈達(dá)  華進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)

編輯:IPRdaily趙珍          校對(duì):IPRdaily縱橫君


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