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中國金獎專利戰(zhàn)實錄:依法保護發(fā)明貢獻,堅決捍衛(wèi)中國創(chuàng)新

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中國金獎專利戰(zhàn)實錄:依法保護發(fā)明貢獻,堅決捍衛(wèi)中國創(chuàng)新

中國金獎專利戰(zhàn)實錄:依法保護發(fā)明貢獻,堅決捍衛(wèi)中國創(chuàng)新

#文章僅代表作者觀點,不代表IPRdaily立場#


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(IPRdaily.cn)

作者:何倫健  哈達  華進知識產(chǎn)權(quán)

原標題:中國金獎專利戰(zhàn)實錄:依法保護發(fā)明貢獻,堅決捍衛(wèi)中國創(chuàng)新


中國科技創(chuàng)新企業(yè)走向全球化發(fā)展的道路上,必須要重視高質(zhì)量的專利布局,認真應(yīng)對專利訴訟無效。只有優(yōu)質(zhì)創(chuàng)新加上強有力的知識產(chǎn)權(quán)保護,才能夠幫助企業(yè)贏得創(chuàng)新發(fā)展新機遇。在面向新時代發(fā)展背景下,中國企業(yè)在不斷創(chuàng)新謀求發(fā)展的同時,需要越來越多經(jīng)得起檢驗的高質(zhì)量專利保駕護航。


引言


目前,我國高端醫(yī)療設(shè)備市場主要被西門子等國外企業(yè)所占據(jù),但是,中國民族企業(yè)上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司(下稱專利權(quán)人)通過自主創(chuàng)新,打破了高端醫(yī)療設(shè)備產(chǎn)業(yè)數(shù)十年由國外企業(yè)壟斷的局面,改寫了國內(nèi)高端醫(yī)療設(shè)備技術(shù)發(fā)展及產(chǎn)品定價受制于跨國公司的不利局面,從而更好地圓百姓的“健康夢”,真正惠及天下大眾,同時,不可避免動了跨國公司的奶酪。為抵擋專利權(quán)人的市場沖擊,西門子對專利權(quán)人的專利主動發(fā)起了無效。


本案涉案專利為201310072198.X、“平面回波成像序列圖像的重建方法”的發(fā)明專利(下稱本專利),是專利權(quán)人持有的平面回波成像技術(shù)方向的高價值核心專利,屬于磁共振成像的原創(chuàng)性技術(shù),并于2016年榮獲第十八屆中國專利獎金獎。


2016年11月30日,西門子(深圳)磁共振有限公司(下稱西門子)針對本專利向?qū)@麖?fù)審委員會提出了無效請求,主要理由包括獨立權(quán)利要求1等不具有新穎性。面對此挑戰(zhàn),專利權(quán)人高度重視,積極聯(lián)合專業(yè)的律師團隊從容應(yīng)對,贏得專利權(quán)維持全部有效的勝利。


一、案情回顧


1、主要爭議焦點


西門子認為,證據(jù)1公開的磁共振信號的相位校正方法,在沒有相位編碼的條件下獲取三條參考回波信號S1+、S2-和S3+,所述三條參考回波信號分別為第一類型信號(相當于偶信號)、第二類型信號(相當于奇信號),以及第一類型信號(相當于偶信號),公開了K空間的行方向為讀出方向,相當于本專利中在行方向上將平面回波成像數(shù)據(jù)進行傅利葉變換得到數(shù)據(jù),再對數(shù)據(jù)進行校正??梢姡C據(jù)1公開了本專利權(quán)利要求1的全部技術(shù)特征。因此,權(quán)利要求1相對于證據(jù)1不具有新穎性。


但專利權(quán)人認為,本專利權(quán)利要求1限定了技術(shù)特征“同時采集三條沒有經(jīng)過相位編碼的參考回波信號R1、R2、R3”;“通過所述參考回波信號計算出需要對所述平面回波成像數(shù)據(jù)進行校正的參數(shù)”。即權(quán)利要求1中是利用三條真實的參考回波來計算獲得校正參數(shù),而證據(jù)1中是利用兩條參考回波來計算校正參數(shù)。


對此,西門子認為,不論是信號的預(yù)處理,或是將兩條同極性參考回波信號進行平均后獲得一條信號都屬于“計算”的中間過程。因此,證據(jù)1公開了采用三條參考回波來計算獲得校正參數(shù)。


2、無效決定


無效決定認為,本專利所述的“計算”為將原始采集的三條參考回波信號直接用于校正參數(shù)的計算。而證據(jù)1記載的技術(shù)方案為:在沒有相位編碼梯度的影響的情況下獲取兩條參考回波,即核磁共振信號S1+和S2-;測量第三參考回波S3+,該參考回波與第一參考回波S1+一樣在讀出梯度GR的正的子脈沖下被測量;通過第一參考回波S1+和第三參考回波S3+的合適的插值,確定一條虛擬的插值回波S2+;通過S2+和S2-兩條參考回波計算校正參數(shù)。因此,證據(jù)1與本專利權(quán)利要求1存在以下區(qū)別技術(shù)特征:本專利是通過原始采集的三條實際的參考回波信號直接計算出對所述平面回波成像數(shù)據(jù)進行校正的參數(shù);而證據(jù)1中是“通過一條實際的參考回波S2-和一條虛擬的插值回波S2+來計算校正參數(shù)的”。


因此,本專利權(quán)利要求1相對于證據(jù)1具備新穎性,并在此基礎(chǔ)上維持本專利有效。


二、案件點評


權(quán)利要求的新穎性評述,首先是確定權(quán)利要求限定的技術(shù)方案是什么,即確定其保護范圍。其次,確定現(xiàn)有技術(shù)公開的技術(shù)內(nèi)容,具體公開了何種技術(shù)方案,何種技術(shù)特征。最后,將權(quán)利要求中的技術(shù)特征與現(xiàn)有技術(shù)中的相應(yīng)技術(shù)特征進行比對,確認是否相同,即是否已經(jīng)被公開,進而判斷技術(shù)方案整體是否具有新穎性。本案中,雙方當事人對于現(xiàn)有技術(shù)公開的內(nèi)容沒有異議,只是對權(quán)利要求1限定的技術(shù)方案是什么存在異議,并得出了完全不同的結(jié)論。


1、權(quán)利要求1的保護范圍的確定


本案中,將證據(jù)1與權(quán)利要求1進行比對,不難發(fā)現(xiàn),證據(jù)1中的確也采用了三條實際的參考回波來計算校正參數(shù);而權(quán)利要求1限定的也是采用三條實際的參考回波來計算校正參數(shù)。從文字含義來理解,兩者是相同的。因此,這里存在一個如何根據(jù)權(quán)利要求來確定其保護范圍的問題。解決這一問題的重點、難點在于對權(quán)利要求保護范圍的確定既要實現(xiàn)對專利權(quán)的充分保護,又要為社會公眾提供足夠的法律確定性,維護其信賴利益。


在以往的法律實踐中,經(jīng)歷了兩種比較極端的權(quán)利要求保護范圍確定方式。其一是“周邊限定論”,即權(quán)利要求的保護范圍完全由其文字內(nèi)容來確定。采用這種方式,有利于增強社會公眾對權(quán)利要求限定的保護范圍的法律確定性,方便規(guī)避侵權(quán)。但對于權(quán)利要求的撰寫質(zhì)量要求非常高,被訴侵權(quán)產(chǎn)品只要存在任何不同,就難以全面覆蓋構(gòu)成侵權(quán),因而不利于對發(fā)明創(chuàng)造提供充分有效的保護。其二是“中心限定論”,即以權(quán)利要求限定的創(chuàng)新點為中心,以說明書及其附圖記載的內(nèi)容為半徑來確定保護范圍,而不限于權(quán)利要求的文字內(nèi)容。這種方式使得權(quán)利要求保護范圍的確定性較差,但對權(quán)利要求的抽象、概括要求不高,更有利于保護發(fā)明實質(zhì)貢獻,對發(fā)明創(chuàng)造提供充分有效的保護。


上述兩種方式由于其固有的缺陷嚴重妨礙專利制度的正常運作,已棄置不用,而以“折衷論”取而代之,即權(quán)利要求的保護范圍由其文字內(nèi)容確定,說明書和附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容,以兼顧專利權(quán)的保護力度與權(quán)利確定性。


本案中,西門子主張,權(quán)利要求1限定了采用三條參考回波進行校正參數(shù)的計算,也包括采用如證據(jù)1公開的采用三條參考回波的計算方法。這其實是又走到了“周邊限定論”的老路上去了。按照這種方式確定,得到的只是表面的、形式上的保護范圍,其中限定的技術(shù)方案與說明書記載的發(fā)明構(gòu)思、技術(shù)手段嚴重脫節(jié)。


無效決定根據(jù)專利法第59條的規(guī)定,采用“折衷”的方式確定權(quán)利要求1的保護范圍,認定“通過所述參考回波信號計算出需要對所述平面回波成像數(shù)據(jù)進行校正的參數(shù)”其實質(zhì)上應(yīng)為“通過所述三條實際的參考回波信號直接計算出需要對所述平面回波成像數(shù)據(jù)進行校正的參數(shù)”,不拘泥于權(quán)利要求的字面含義,充分揭示了本專利對現(xiàn)有技術(shù)作出的創(chuàng)造性貢獻,對發(fā)明內(nèi)容的概括更為客觀,與發(fā)明做出的實質(zhì)貢獻更相符合,平衡了專利權(quán)人與社會公眾的利益,不失為對專利法第59條的經(jīng)典詮釋。


2、權(quán)利要求1中與證據(jù)1是否公開了權(quán)利要求1中的上述區(qū)別技術(shù)特征


權(quán)利要求的技術(shù)特征被對比文件公開,不僅要求該對比文件中包含有相應(yīng)的技術(shù)特征,還要求該相應(yīng)的技術(shù)特征在對比文件中所起的作用與其在權(quán)利要求中所起的作用相同。在準確確定權(quán)利要求1的保護范圍的基礎(chǔ)上,復(fù)審委事實上從三個方面論述了其與證據(jù)1公開的技術(shù)方案之間的區(qū)別:


首先,技術(shù)特征所描述的技術(shù)手段本身不相同。根據(jù)本專利權(quán)利要求1以及說明書的記載,權(quán)利要求1中是通過三條參考回波直接計算得到的校正參數(shù)(一次性偏差因子),并非只利用了其中的一條或兩條參考回波。同理,其他三條校正參數(shù)也是通過三條參考回波直接計算得到的。


而證據(jù)1中技術(shù)方案的整個計算流程是:


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可見,如證據(jù)1明確記載的那樣,證據(jù)1中是采用的計算校正參數(shù)的計算方法,是對公知的、通過兩條參考回波S1+和S2-來計算校正參數(shù)的技術(shù)方案的局部改進或微調(diào),其實質(zhì)上還是公知的、采用兩條參考回波(只不過此時換成了虛擬的S2+和S2-)分別單獨計算出對于讀出梯度的正的脈沖的一次項相位響應(yīng)和負的脈沖的一次項相位響應(yīng)兩個校正參數(shù),分別用于進行圖像信號的一次項的校正,校正后的值Hij必須對于讀出梯度GR的正的和負的脈沖下的信號被單獨地考慮,即證據(jù)1利用單獨的兩條參考回波分別計算出各自的一次項校正參數(shù)后,再分別用于校正圖像數(shù)據(jù)的偶信號和奇信號。


其次,兩者執(zhí)行的功能不相同。盡管兩者都可以獲得對圖像偏差的校正參數(shù),但得到的參數(shù)并不相同。以獲得一次項偏差的校正參數(shù)為例,本專利獲得的參數(shù)只有一個(即一次項相位偏差中國金獎專利戰(zhàn)實錄:依法保護發(fā)明貢獻,堅決捍衛(wèi)中國創(chuàng)新),并采用這一參數(shù)同時對圖像數(shù)據(jù)的奇偶信號進行校正。而證據(jù)1中利用單獨的兩條參考回波分別計算得到的校正參數(shù)有兩個(即中國金獎專利戰(zhàn)實錄:依法保護發(fā)明貢獻,堅決捍衛(wèi)中國創(chuàng)新中國金獎專利戰(zhàn)實錄:依法保護發(fā)明貢獻,堅決捍衛(wèi)中國創(chuàng)新),再分別用于校正圖像數(shù)據(jù)的偶信號和奇信號,即證據(jù)1中所述的“偶數(shù)行和奇數(shù)行,被單獨地考慮”。


第三,兩者產(chǎn)生的技術(shù)效果不相同。在本專利中,由于采集到的R1、R2、R3三條信號所承載的珍貴的信息資源,得到了完整的保留,并都被充分用于進行傅利葉變換,從而計算出的消除偏差或偏移的校正參數(shù)更加精確。而證據(jù)1通過插值的方式虛擬一條極性相反、而其它性質(zhì)完全不變的信號S2+。這一過程中丟失了信號S1+和S3+的很多原始信息,又引入了新的不確定性。并且仍然沿用公知的、采用S1+和S2-兩參考回波的計算方法。由此也使得其獲得的校正參數(shù)是不完美的。


上述認定從把握技術(shù)構(gòu)思出發(fā),分別從本專利與證據(jù)1要解決的技術(shù)問題、技術(shù)手段、技術(shù)效果等方面對兩者計算校正參數(shù)的方法進行了區(qū)分,揭示了兩種校正參數(shù)計算方法的實質(zhì)性差異,以及對圖像數(shù)據(jù)的偏移或偏差的校正效果的顯著不同,有力論證了本專利與證據(jù)1兩種技術(shù)方案之間存在的顯著區(qū)別,為權(quán)利要求1相對于證據(jù)1具有新穎性的結(jié)論打下了堅實基礎(chǔ)。


本案中,面對西方強勢企業(yè)的挑戰(zhàn),中國企業(yè)從容應(yīng)對并取得關(guān)鍵勝利,表明中國企業(yè)創(chuàng)新實力和知識產(chǎn)權(quán)制度運用能力正在邁向新臺階。在此,也提醒中國創(chuàng)新企業(yè),專利不是授權(quán)后就可以高枕無憂,如果授權(quán)質(zhì)量不可靠,無效應(yīng)對不當,授權(quán)專利也可能被無效。專利無效不僅僅是一項專利權(quán)的存亡問題,很多時候其背后關(guān)系著一件專利侵權(quán)訴訟的成敗、一個商品能否上市、嚴重時影響到一個公司能否繼續(xù)在該領(lǐng)域生存發(fā)展。中國科技創(chuàng)新企業(yè)走向全球化發(fā)展的道路上,必須要重視高質(zhì)量的專利布局,認真應(yīng)對專利訴訟無效。只有優(yōu)質(zhì)創(chuàng)新加上強有力的知識產(chǎn)權(quán)保護,才能夠幫助企業(yè)贏得創(chuàng)新發(fā)展新機遇。在面向新時代發(fā)展背景下,中國企業(yè)在不斷創(chuàng)新謀求發(fā)展的同時,需要越來越多經(jīng)得起檢驗的高質(zhì)量專利保駕護航。



參考文獻:

①崔國斌著,《專利法:原理與案例(第二版)》,北京大學出版社,2016年版,第589頁;

②尹新天著,《中國專利法詳解》,2011年版,第557-559頁;

③宋淑華、楊存吉,“權(quán)利要求的技術(shù)特征被對比文件公開的認定標準”,載《人民司法》,2012年22卷。



來源:IPRdaily中文網(wǎng)(IPRdaily.cn)

作者:何倫健   哈達  華進知識產(chǎn)權(quán)

編輯:IPRdaily趙珍          校對:IPRdaily縱橫君


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