如何從「背景技術(shù)撰寫」角度，提高申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量？

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作者：陳紅紅北京品源專利代理有限公司

原標(biāo)題：淺談如何由背景技術(shù)的撰寫提高申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量

背景技術(shù)為說(shuō)明書的重要組成部分，也是整個(gè)說(shuō)明書的基礎(chǔ)，能體現(xiàn)出專利申請(qǐng)文件的邏輯性。背景技術(shù)記載了現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題，體現(xiàn)了發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷陌l(fā)明點(diǎn)，能夠?yàn)榇_定獨(dú)立權(quán)利要求的必要技術(shù)特征提供依據(jù)。本文從選擇性的參考技術(shù)交底書以及背景技術(shù)的撰寫思路等方面對(duì)背景技術(shù)的撰寫提出建議，以期提高專利申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量。

專利申請(qǐng)文件的說(shuō)明書包括技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛢?nèi)容、附圖說(shuō)明和具體實(shí)施方式。其中背景技術(shù)部分應(yīng)當(dāng)寫明對(duì)發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷睦斫?、檢索、審查有用的背景技術(shù)，并且盡可能引證反應(yīng)這些背景技術(shù)的文件。背景技術(shù)能夠體現(xiàn)出說(shuō)明書整體的邏輯主線，能夠直指發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛢?nèi)容所要解決的技術(shù)問題。

但是，背景技術(shù)卻并未引起大多數(shù)申請(qǐng)人或代理人的重視，造成背景技術(shù)撰寫過(guò)程中過(guò)于隨意，內(nèi)容過(guò)多或過(guò)少，邏輯混亂，讀起來(lái)不知所云，造成審查員無(wú)法正確理解發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷膶?shí)質(zhì)、發(fā)明點(diǎn)及其專利性，從而造成背景技術(shù)起不到其該有的作用。

究竟如何撰寫高質(zhì)量的背景技術(shù)呢？筆者從專利代理人的角度給出如下幾點(diǎn)建議：

一、實(shí)際撰寫過(guò)程中建議不要照搬技術(shù)交底書

技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理人對(duì)技術(shù)溝通的重要資料，代理人可以通過(guò)技術(shù)交底書獲得技術(shù)相關(guān)的信息。但是，發(fā)明人撰寫的技術(shù)交底書僅是為了介紹技術(shù)信息，因此，有些技術(shù)交底書可能僅對(duì)發(fā)明點(diǎn)的技術(shù)內(nèi)容做針對(duì)性描述，背景技術(shù)則寥寥數(shù)筆帶過(guò)；還有些技術(shù)交底書則可能對(duì)背景技術(shù)著墨較多，對(duì)相應(yīng)技術(shù)的發(fā)展史、技術(shù)發(fā)展過(guò)程中的各種問題以及解決各種問題的過(guò)程都進(jìn)行了詳細(xì)介紹。

代理人如果照搬發(fā)明人提供的背景技術(shù)則無(wú)法滿足審查指南中對(duì)背景技術(shù)做出的基本要求。

比如，如果背景技術(shù)的內(nèi)容過(guò)少，將造成審查員（或其他讀者）無(wú)法了解發(fā)明或?qū)嵱眯滦退Ｗo(hù)的客體以及背景技術(shù)中存在的問題和缺點(diǎn)，以至審查員無(wú)法清楚發(fā)明或?qū)嵱眯滦褪轻槍?duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的何種問題提出的；如果背景技術(shù)的內(nèi)容過(guò)多，涉及到保護(hù)客體的缺點(diǎn)過(guò)多，內(nèi)容繁雜，缺乏條理，導(dǎo)致讀者不能清晰的了解到該發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷恼嬲鉀Q的問題以及所要達(dá)到的效果。

因此，針對(duì)發(fā)明人提供的技術(shù)交底書要進(jìn)行選擇性參考，合理運(yùn)用，不能盲目使用。

二、撰寫的思路

首先，針對(duì)保護(hù)的客體或其相關(guān)概念進(jìn)行基本介紹。

主要是該客體或相關(guān)概念的所屬的領(lǐng)域、作用以及其應(yīng)用的環(huán)境或者作業(yè)的對(duì)象等一些基本情況進(jìn)行介紹。客體及相關(guān)概念介紹清楚有助于審查員的理解，否則在審查員不了解保護(hù)客體的前提下，并不能真正清楚其缺點(diǎn)及問題所在，造成審查員理解存在偏差。

在背景技術(shù)中可以采用定義的方式對(duì)保護(hù)客體進(jìn)行介紹，定義的給出可以參照教科書或工具書，還可以根據(jù)代理人自身對(duì)保護(hù)客體的理解進(jìn)行定義。

其次，對(duì)現(xiàn)有技術(shù)方案進(jìn)行具體介紹并提出其存在的缺點(diǎn)和問題。

在介紹保護(hù)客體的缺點(diǎn)和問題時(shí)，盡量介紹清楚現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，不要單純的采用效果來(lái)描述，例如僅僅描述現(xiàn)有技術(shù)中技術(shù)方案的結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不介紹其具體結(jié)構(gòu)，則造成無(wú)法證明專利申請(qǐng)文件提出的技術(shù)方案是簡(jiǎn)化的結(jié)構(gòu)，因此，無(wú)法證明其具有專利性。

由上述可知，對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的具體技術(shù)方案進(jìn)行介紹是必要的。除了文字描述外還可以通過(guò)附圖進(jìn)行輔助說(shuō)明；有可能的，可以引證反應(yīng)這些背景技術(shù)的文件。尤其要引證包含發(fā)明或者實(shí)用新型權(quán)利要求書中的獨(dú)立權(quán)利要求前序部分技術(shù)特征的現(xiàn)有技術(shù)文件，即引證與發(fā)明或者實(shí)用新型專利申請(qǐng)最接近的現(xiàn)有技術(shù)文件。說(shuō)明書中引證的文件可以是專利文件，也可以是非專利文件，例如期刊、雜志、手冊(cè)和書籍等。引證專利文件的，至少要寫明專利文件的國(guó)別、公開號(hào)，最好包括公開日期；引證非專利文件的，要寫明這些文件的標(biāo)題和詳細(xì)出處（參照專利審查指南）。

另外，無(wú)需提出現(xiàn)有技術(shù)中過(guò)多的缺點(diǎn)和問題。在背景技術(shù)中提出過(guò)多的缺陷，容易導(dǎo)致審查員不清楚發(fā)明或?qū)嵱眯滦椭饕鉀Q的問題，或者造成獨(dú)立權(quán)利要求由于要解決較多的問題導(dǎo)致保護(hù)范圍縮小。

三、案例分析

該案例是針對(duì)“一種靜電放電模擬器的校準(zhǔn)輔助裝置”的背景技術(shù)進(jìn)行的撰寫，要解決的技術(shù)問題是：校準(zhǔn)時(shí)，靜電放電模擬器不能連續(xù)集中放電靶靶心導(dǎo)致的無(wú)法準(zhǔn)確校準(zhǔn)的問題。

上述案件的背景技術(shù)的撰寫初稿為：

“按照國(guó)家相關(guān)規(guī)定，凡是與人接觸的電子設(shè)備都必須進(jìn)行靜電放電抗擾度試驗(yàn)，因而靜電放電模擬器/靜電放電發(fā)生器（或叫靜電槍）是電磁兼容測(cè)試中使用最廣泛的設(shè)備之一。

靜電放電模擬器傳統(tǒng)的測(cè)試方法是人工持槍對(duì)準(zhǔn)靜電靶連續(xù)放電，直到示波器上能夠穩(wěn)定讀到準(zhǔn)確的波形，這樣的缺點(diǎn)就是人有被高壓電擊到的可能以及由于通過(guò)手握控制不能保持穩(wěn)定，可能造成槍頭不能連續(xù)接觸擊中靶心，引起測(cè)量誤差。

目前，針對(duì)一些設(shè)置有連接孔的靜電放電模擬器可以使用簡(jiǎn)單支架對(duì)其進(jìn)行固定，但是對(duì)于未設(shè)置連接孔的靜電放電模擬器卻不能使用支架對(duì)其進(jìn)行固定，并且即使將靜電放電模擬器進(jìn)行固定，還是需要人去觸發(fā)靜電放電模擬器，依然存在人被高壓電擊到的危險(xiǎn)。

針對(duì)上述缺陷，亟需設(shè)計(jì)一種靜電放電模擬器的校準(zhǔn)輔助裝置，以解決靜電放電模擬器不能連續(xù)接觸擊中靶心，引入測(cè)量誤差的問題，還避免人去觸發(fā)靜電放電模擬器，以解決人體接觸到高壓電的問題。”

上述背景技術(shù)中，并沒有對(duì)靜電放電模擬器的校準(zhǔn)裝置進(jìn)行介紹，或者對(duì)如何校準(zhǔn)靜電放電模擬器進(jìn)行介紹，只是提到了“靜電放電抗擾度試驗(yàn)”和“靜電放電模擬器傳統(tǒng)的測(cè)試方法”，如果對(duì)該領(lǐng)域不是特別熟悉的讀者（包括審查員）則可能將這兩部分認(rèn)為是同一個(gè)試驗(yàn)，而并不會(huì)聯(lián)想到靜電放電模擬器傳統(tǒng)的測(cè)試方法是校準(zhǔn)靜電放電模擬器的試驗(yàn)。因此，該背景技術(shù)中并未介紹清楚校準(zhǔn)靜電放電模擬器是如何校準(zhǔn)。

另外，對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)的介紹中，提到了兩個(gè)缺點(diǎn)，一個(gè)缺點(diǎn)是“人有被高壓電擊到的可能”，另一個(gè)缺點(diǎn)是“不能連續(xù)接觸擊中靶心”，而后針對(duì)第一個(gè)缺點(diǎn)介紹現(xiàn)有技術(shù)中的解決方案“針對(duì)一些設(shè)置有連接孔的靜電放電模擬器可以使用簡(jiǎn)單支架對(duì)其進(jìn)行固定，但是對(duì)于未設(shè)置連接孔的靜電放電模擬器卻不能使用支架對(duì)其進(jìn)行固定”。

該背景技術(shù)中提出兩個(gè)缺點(diǎn)，并未分清具體哪個(gè)缺點(diǎn)是主要缺點(diǎn)，如果以篇幅的多少來(lái)區(qū)分，第一個(gè)缺點(diǎn)應(yīng)該為主要缺點(diǎn)，但是與申請(qǐng)人真正想解決的問題又背道而馳。另外，針對(duì)第一個(gè)缺點(diǎn)給出解決的技術(shù)方案，并未描述清楚結(jié)構(gòu)，并不能得出連接孔的結(jié)構(gòu)或位置，也沒有相應(yīng)的附圖進(jìn)行輔助說(shuō)明，僅能得出現(xiàn)有技術(shù)中不能消除所有類型的靜電放電模擬器校準(zhǔn)時(shí)被電擊的危險(xiǎn)。

最后，由現(xiàn)有技術(shù)存在的問題引出本申請(qǐng)的校準(zhǔn)裝置，以解決兩個(gè)問題，一個(gè)問題是“靜電放電模擬器不能連續(xù)接觸擊中靶心，引入測(cè)量誤差的問題”，另一個(gè)問題是“人體接觸到高壓電的問題”。也就是本申請(qǐng)的獨(dú)立權(quán)利要求需要一并解決這兩個(gè)問題，因此獨(dú)立權(quán)利要求中的必要技術(shù)特征相對(duì)于解決一個(gè)問題時(shí)的必要技術(shù)特征增加，也造成獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍減小，將損害申請(qǐng)人的權(quán)益。

基于背景技術(shù)初稿中存在的問題進(jìn)行修改，修改后的背景技術(shù)如下：

“靜電放電發(fā)生器 (ESD Generator) 或叫靜電放電模擬器(ESD Simulator)，俗稱靜電放電槍(ESD gun)，是電磁兼容測(cè)量試驗(yàn)中與靜電放電抗擾度(ESD immunity)試驗(yàn)中的重要設(shè)備，目的是為了檢驗(yàn)電子設(shè)備受到外來(lái)靜電放電時(shí)能否正常工作。在進(jìn)行電磁兼容測(cè)量試驗(yàn)或靜電放電抗擾度試驗(yàn)時(shí)，一般利用結(jié)構(gòu)緊湊的手持式靜電放電模擬器/手持式靜電放電發(fā)生器產(chǎn)生放電，為了保證抗擾度試驗(yàn)的準(zhǔn)確性，需要對(duì)靜電放電模擬器校準(zhǔn)后使用。

現(xiàn)有技術(shù)中，在進(jìn)行靜電放電模擬器校準(zhǔn)試驗(yàn)時(shí)，操作人員持握靜電放電模擬器對(duì)準(zhǔn)靜電靶，操作人員觸發(fā)靜電放電模擬器的開關(guān)后靜電放電模擬器對(duì)靜電靶連續(xù)放電，靜電靶將接收的電信號(hào)經(jīng)過(guò)高壓衰減器后再傳到示波器上顯示，直到示波器上能夠穩(wěn)定讀到準(zhǔn)確的波形曲線，然后將得到的波形曲線與標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行校準(zhǔn)比對(duì)。上述校準(zhǔn)試驗(yàn)中，由于操作人員直接持握靜電放電模擬器進(jìn)行試驗(yàn)，將會(huì)造成靜電放電模擬器晃動(dòng)，使得靜電放電模擬器不能連續(xù)擊中靶心，示波器上無(wú)法顯示穩(wěn)定且準(zhǔn)確的波形曲線，從而不能準(zhǔn)確的對(duì)靜電放電模擬器進(jìn)行校準(zhǔn)。

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，亟需設(shè)計(jì)一種靜電放電模擬器的校準(zhǔn)輔助裝置，以解決靜電放電模擬器不能連續(xù)擊中放電靶靶心導(dǎo)致的無(wú)法準(zhǔn)確校準(zhǔn)的問題。

修改后的背景技術(shù)的撰寫思路為：首先給出靜電放電模擬器的定義，介紹其應(yīng)用，并引出其需要校準(zhǔn)后使用。然后，具體介紹現(xiàn)有技術(shù)中靜電放電模擬器校準(zhǔn)的過(guò)程，并根據(jù)該具體過(guò)程指出該校準(zhǔn)中存在的問題。最后，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)靜電放電模擬器校準(zhǔn)中存在的問題，提出本申請(qǐng)中需要解決的問題?！?/span>

修改后的背景技術(shù)對(duì)靜電放電模擬器和其校準(zhǔn)過(guò)程均給出了具體的介紹，避免讓審查員帶著疑問進(jìn)行閱讀，并且現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)與需要解決的問題對(duì)應(yīng)，發(fā)明點(diǎn)一目了然，易獲得審查員的認(rèn)可。

綜上所述，合格的背景技術(shù)應(yīng)該基于對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的準(zhǔn)確理解，以及準(zhǔn)確、邏輯清晰的語(yǔ)言表達(dá)。合格的背景技術(shù)有助于提高專利申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量，有助于審查員對(duì)申請(qǐng)文件的理解，有助于維護(hù)申請(qǐng)人權(quán)益，因此應(yīng)重視背景技術(shù)的撰寫。

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作者：陳紅紅北京品源專利代理有限公司

編輯：IPRdaily趙珍校對(duì)：IPRdaily縱橫君