權(quán)利要求書的撰寫

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作者：張曉磊   北京品源專利代理有限公司

原標題：淺談權(quán)利要求書的撰寫

權(quán)利要求書是專利申請中最核心的部分，在撰寫?yīng)毩?quán)利要求和從屬權(quán)利要求之前需要全面理解交底中的技術(shù)方案，明確針對解決的問題所需要的必要技術(shù)特征，并且對非必要技術(shù)特征進行分析，按照重要性進行排序，從而使得撰寫的獨立權(quán)利要求在具有新創(chuàng)性的前提下范圍大而合理，從屬權(quán)利要求層層遞進。

一、引言

權(quán)利要求書是專利申請文件中最核心的組成部分，限定了專利申請文件的所要求的保護范圍，其撰寫的結(jié)果應(yīng)該實現(xiàn)專利申請的目的，一是得到確定且穩(wěn)定的保護，二是盡可能得到最大范圍的保護?？梢哉f，即獲得專利授權(quán)又得到最大范圍的穩(wěn)定保護才是專利申請的根本目的，也是權(quán)利要求撰寫的宗旨。

二、權(quán)利要求書的撰寫

權(quán)利要求書的撰寫主要包括對技術(shù)方案的理解、獨立權(quán)利要求的撰寫和從屬權(quán)利要求書的撰寫，其中技術(shù)方案的理解是寫好權(quán)利要求書的關(guān)鍵所在，而獨立權(quán)利要求書是權(quán)利要求書中最重要的部分，接下來將從技術(shù)方案的理解、獨立權(quán)利要求的撰寫和從屬權(quán)利要求的撰寫三個方面來進行分析說明。

1、技術(shù)方案的理解

在實際工作過程中，專利代理人在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時需要確定必要技術(shù)特征，為了確定必要技術(shù)特征，需要將交底書中發(fā)明人提供的內(nèi)容進行充分的理解，以期從中摘出解決發(fā)明人提出的最基本技術(shù)問題的技術(shù)方案，也就是必要技術(shù)特征。但是專利代理人不應(yīng)當僅僅根據(jù)發(fā)明人提供的背景技術(shù)自行判斷必要技術(shù)特征，因為有時候發(fā)明人并不了解背景技術(shù)對于撰寫人員來說意味著什么，其提供的背景技術(shù)也不一定是最接近的現(xiàn)有技術(shù)。

因此，切忌在看完交底書后“自以為是”，而是應(yīng)當基于發(fā)明人的發(fā)明意圖，找出符合該發(fā)明意圖的技術(shù)方案，并且與發(fā)明人進行溝通。因此在溝通時需要明確以下幾個問題：

1）.要解決的技術(shù)問題。

2）.要解決上述技術(shù)問題需要采用的技術(shù)方案，技術(shù)方案中那些技術(shù)特征是可以去除或者被替代，并且再次確定技術(shù)方案是否完整可行。

3）.確定哪個發(fā)明點是最核心的（針對于具有兩個以上發(fā)明點的情況）。

4）.針對具有兩個以上發(fā)明點的情況，需要確認是否是可以拆解，突出一個還是看做一個整體。

5）.數(shù)量問題，技術(shù)方案中涉及數(shù)量時，一定要確定比方案中提到的數(shù)量多或者少是否可行。

6）.細節(jié)問題，比如：采用的某種結(jié)構(gòu)的類型或型號；除發(fā)明點之外的結(jié)構(gòu)有什么效果。

總的來說，是在明確技術(shù)問題、規(guī)避最接近的現(xiàn)有技術(shù)和突出核心發(fā)明點的基礎(chǔ)上，確定最終的技術(shù)方案，而不是僅僅根據(jù)基于發(fā)明人提供的交底來確定技術(shù)問題和技術(shù)方案，避免出現(xiàn)遺漏技術(shù)方案，偏離發(fā)明點的情況。

舉例：技術(shù)方案包括A+B，A單獨針對一個問題，具有一定的效果，A+B針對另一個問題，具有一定的效果。這時就需要針對檢索結(jié)果和與發(fā)明人溝通來確定獨權(quán)是針對A來寫還是針對A+B來寫。

在與發(fā)明人溝通之后，對整個交底書的內(nèi)容進行整理。

1）.本申請要解決的問題。（現(xiàn)有技術(shù)有哪些問題）

2）.要解決上述問題所采用的核心技術(shù)方案（發(fā)明點）。

3）.除核心技術(shù)方案外的其他技術(shù)方案（附加點）。

2、獨立權(quán)利要求書的撰寫

獨立權(quán)利要求是權(quán)利要求書中最重要的權(quán)項，其限定了專利申請文件所要求的最大的保護范圍。在專利申請中，獨立權(quán)利要求具有舉足輕重的地位，因此專利代理人應(yīng)注重獨立權(quán)利要求的撰寫質(zhì)量。

結(jié)合《中華人民共和國專利法》、《中華人民共和國專利法實施細則》及《專利審查指南》（2010版）中關(guān)于獨立權(quán)利要求的相關(guān)規(guī)定，獨立權(quán)利要求應(yīng)至少滿足下列要求：

1）.清楚、簡要的限定獨立權(quán)利要求書的保護范圍。

2）.從整體上反映發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案，記載解決技術(shù)問題的全部必要技術(shù)特征；

3）.具有新穎性和創(chuàng)造性。

其中，必要技術(shù)特征時指為解決技術(shù)問題所必不可缺少的技術(shù)特征，其總和足以構(gòu)成發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案。在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時，必須將解決通過檢索結(jié)果和發(fā)明人溝通確認后的技術(shù)問題的核心的區(qū)別技術(shù)特征放入獨立權(quán)利要求內(nèi)。這些區(qū)別技術(shù)特征是使得獨立權(quán)利要求具備新創(chuàng)性的關(guān)鍵。

對于除上述區(qū)別技術(shù)特征之外的某個技術(shù)特征可通過排出法來確定其是否為必要技術(shù)特征。即若將某個技術(shù)特征放入獨立權(quán)利要求中，獨立權(quán)利要求中的技術(shù)方案能解決所要解決的技術(shù)問題，而不將這個技術(shù)特征放入獨立權(quán)利要求中，獨立權(quán)利要求中的技術(shù)方案不能解決所要解決的技術(shù)問題，那么這個技術(shù)特征就是必要技術(shù)特征。當然，對于兩個相互關(guān)聯(lián)，協(xié)作的技術(shù)特征可考慮同時放入獨立權(quán)利要求中來進行判斷。

在確定出所有的必要技術(shù)特征后，就能開始撰寫?yīng)毩?quán)利要求，這時需要注意的問題就是：獨立權(quán)利要求的保護范圍。發(fā)明人總是希望專利申請能夠獲得最大的保護范圍，而作為代理人，應(yīng)當在保持具有新創(chuàng)性的前提下盡量寫出一個保護范圍較大的獨立權(quán)利要求。因此，在進行獨立權(quán)利要求的撰寫時，不能僅限于發(fā)明人提供的具體實施方式，因為發(fā)明人在交底書中提供的一般是最佳的實施方式，但是并不代表是唯一的實施方式。

具體在撰寫時，對于某一個必要技術(shù)特征，首先要分析其是否能被替代，也就是其他類似的結(jié)構(gòu)或特征能否達到相近或相同的效果，如果有，就需將這個必要技術(shù)特征進行上位概括，但是上位概括一定要合理，切不可導(dǎo)致該必要技術(shù)特征喪失區(qū)別性，如果是，則不能對該必要技術(shù)特征進行上位概括?？偟膩碚f，獨立權(quán)利要求盡量做到“范圍大而合理”，判斷撰寫的獨立權(quán)利要求是否合理的一個參考準則是：“大部分的從屬權(quán)利要求都可以通過引用獨立權(quán)利要求來進行撰寫”。

在撰寫出保護范圍合理且具備一定新穎性和創(chuàng)造性的獨立權(quán)利要求后，還需要對獨立權(quán)利要求進行反復(fù)斟酌，刪掉與解決的技術(shù)問題沒有直接關(guān)系的技術(shù)特征，去除不必要的限定或者限制，使得獨立權(quán)利要求簡潔、嚴謹、完整。

因此，獨立權(quán)利要求撰寫時后需要注意一下問題：

1）.是否具有新創(chuàng)性；

2）.是否能夠解決所要解決的技術(shù)問題；

3）.是否存在非必要技術(shù)特征；

4）.是否進行了合理的上位；

5）.技術(shù)方案是否清楚，是否存在歧義；

6）.語句是否簡潔精煉。

3、從屬權(quán)利要求書的撰寫

從屬權(quán)利要求又稱“從屬權(quán)項”，是跟隨獨立權(quán)利要求之后，用附加的技術(shù)特征對引用的權(quán)利要求（包括獨立或從屬權(quán)利要求）進一步限定的權(quán)利要求。從屬權(quán)利要求是獨立權(quán)利要求的下位權(quán)利要求，是對獨立權(quán)利要求改進，本身必定落入獨立權(quán)利保護范圍之內(nèi)，但通過增加新的技術(shù)特征進一步優(yōu)化和限定獨立權(quán)利要求。因此，從屬權(quán)利要求的作用在于：在審批程序中為針對新穎性、創(chuàng)造性的審查意見提供答復(fù)的回旋余地；在無效程序中形成專利權(quán)人的多道防線；限定一些比較有商業(yè)應(yīng)用價值的具體技術(shù)方案，從而在侵權(quán)訴訟和許可證貿(mào)易使專利權(quán)人十分有利。

綜上，從屬權(quán)利要求主要具有兩種類型：一種是對所引用的權(quán)利要求（獨權(quán)或從權(quán)）中已有的技術(shù)特征進行進一步限定或者解釋說明；一種是在所引用的權(quán)利要求（獨權(quán)或從權(quán)）的基礎(chǔ)上增加新的技術(shù)特征。也就是說，一部分從屬權(quán)利要求為對獨立要求書的技術(shù)特征的進一步限定，是對獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征進行下位的解釋；另一部分從屬權(quán)利要求是在獨立權(quán)利要求的基礎(chǔ)上增加新的技術(shù)特征，解決更多的技術(shù)問題，將新的技術(shù)特征與獨立權(quán)利要求的必要技術(shù)特征結(jié)合構(gòu)成一個新的技術(shù)方案。

一般來說，新增加的技術(shù)特征對獨立權(quán)利要求的創(chuàng)造性貢獻較大，可以考慮優(yōu)先撰寫，當新增加的技術(shù)特征有多個時，可按照對創(chuàng)造性貢獻的大小進排序。當從屬權(quán)利要求書中沒有增加新的技術(shù)特征時，可根據(jù)獨立權(quán)利要求書中的技術(shù)特征的重要性進行排序，比如獨立權(quán)利要求包括A+B+C，重要性A>B>C,從權(quán)的順序可以為對A的進一步的限定、對B的進一步限定，最后是對C的進一步限定。

因此，從屬權(quán)利要求撰寫時需要注意一下問題：

1）.每個從屬權(quán)利要求記載的技術(shù)特征是否構(gòu)成一個完整的技術(shù)方案，技術(shù)方案是否合理有效；

2）.每個從屬權(quán)利要求是否進行了合理的上位；

3）.相對于其引用的權(quán)利要求是否重復(fù)限定；

4）.每個從屬權(quán)利要求是否對應(yīng)有一定的效果；

5）.從權(quán)的布局、梯度是否合理。

三、舉例說明

如圖1所示，將內(nèi)嵌式攝像頭設(shè)計為彈出式，并且能夠進行180°的旋轉(zhuǎn)，具體為電磁鐵通電對磁鐵產(chǎn)生吸力將卡塊從安裝座內(nèi)吸出使得攝像頭伸出，并且在電磁鐵斷電后通過小彈簧的彈力使得卡塊又卡接于安裝座，將攝像頭限制在凹槽內(nèi)。

分析交底的內(nèi)容并且與發(fā)明人溝通之后確認要解決的技術(shù)問題：現(xiàn)有的如筆記本電腦的攝像頭都是內(nèi)嵌式固裝在顯示器上，不可進行調(diào)整。若要實現(xiàn)攝像頭可進行調(diào)整，則首先攝像頭得可伸出凹槽，隨后可進行旋轉(zhuǎn)，對應(yīng)地攝像頭能夠伸出就得能夠回縮，也就是攝像頭被某種結(jié)構(gòu)限制在凹槽內(nèi)，解除限制時攝像頭可伸出。因此，必要技術(shù)特征就包括：攝像頭、電磁鐵、磁鐵、卡塊、小彈簧、安裝座、彈簧。非必要技術(shù)特征包括：轉(zhuǎn)軸、固定柱、隨后分析上述的必要技術(shù)特征是否能夠進行合并或分解，并進行合理的上位，攝像頭能夠180°轉(zhuǎn)動需要安裝座，則只需考慮安裝座的限位和伸出即可，彈簧的作用使得安裝座能夠彈出，但是能夠使得安裝座伸出的結(jié)構(gòu)并不是只有彈簧，因此彈簧可進行上位，比如彈出組件?？▔K、小彈簧及電磁鐵的共同作用是將安裝座鎖定或者放開，因此他們可以看做一個整體進行上位。比如限位結(jié)構(gòu)。

則相應(yīng)的獨立權(quán)利要求就可以寫成：

一種攝像頭結(jié)構(gòu)，包括攝像頭和承載所述攝像頭的本體，所述本體上設(shè)置有凹槽，所述攝像頭收容于所述凹槽內(nèi)，其特征在于，所述攝像頭結(jié)構(gòu)還包括：

安裝座，活動設(shè)置于所述凹槽內(nèi)，所述攝像頭能夠轉(zhuǎn)動地設(shè)置于所述安裝座上；及限位結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述凹槽內(nèi)，所述限位結(jié)構(gòu)能夠鎖定或放開所述安裝座；及彈出組件，連接于所述安裝座與所述凹槽之間，能夠在所述安裝座被放開后將所述攝像頭彈出所述凹槽。

其中，“其特征在于”前面的部分為前序部分。

獨立權(quán)利要求撰寫完成后，相應(yīng)的從屬權(quán)利要求就是對限位結(jié)構(gòu)、彈出組件及非必要技術(shù)特征等內(nèi)容的撰寫。按照對獨立權(quán)利要求新創(chuàng)性的貢獻進行分析，限位結(jié)構(gòu)>彈出組件和非必要技術(shù)特征。

綜上分析，從屬權(quán)利要求首先對限位結(jié)構(gòu)進行進一步的限定，隨后在對彈出組件和非必要技術(shù)特征進行限定。在上述分析時，限位結(jié)構(gòu)由卡塊、小彈簧和電磁鐵構(gòu)成，也就是說卡塊、小彈簧和電磁鐵構(gòu)成一個完整的技術(shù)方案，但是從屬權(quán)利要求也應(yīng)當進行一定的上位，因此可將三者進行分解、合并，由于電磁鐵和小彈簧共同作用來使得卡塊和安裝座卡接或脫離卡接，因此卡塊單獨可上位成限位結(jié)構(gòu)，小彈簧和電磁鐵可上位成驅(qū)動件。

圖1

四、總結(jié)

權(quán)利要求書是專利申請中最核心的部分，在撰寫?yīng)毩?quán)利要求和從屬權(quán)利要求之前需要全面理解交底中的技術(shù)方案，明確針對解決的問題所需要的必要技術(shù)特征，并且對非必要技術(shù)特征進行分析，按照重要性進行排序，從而使得撰寫的獨立權(quán)利要求在具有新創(chuàng)性的前提下范圍大而合理，從屬權(quán)利要求層層遞進。

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（IPRdaily.cn）

作者：張曉磊   北京品源專利代理有限公司

編輯：IPRdaily趙珍          校對：IPRdaily縱橫君

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