如何提高專利的撰寫質(zhì)量？

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作者：麻雪梅北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司

原標(biāo)題：淺談該如何提高專利的撰寫質(zhì)量

摘要：

一篇專利的撰寫，首先應(yīng)當(dāng)滿足：權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù)，清楚、簡要地限定要求專利保護(hù)的范圍。權(quán)利要求書中的獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫應(yīng)當(dāng)從整體上反映發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)方案，記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。

同時(shí)，說明書應(yīng)當(dāng)滿足：說明書應(yīng)當(dāng)對發(fā)明或者實(shí)用新型作出清楚、完整的說明，以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)。此外，專利權(quán)利要求書撰寫質(zhì)量的高低還取決于撰寫出的獨(dú)立權(quán)利要求是否具備新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，以及還取決于是否能夠?yàn)榭蛻魻幦〉揭粋€(gè)合理的、適當(dāng)大的保護(hù)范圍，即，確保具有較好的穩(wěn)定性。

另外，在面臨日后的專利侵權(quán)問題時(shí)，為了提高專利權(quán)利的穩(wěn)定性以及避免專利的權(quán)利要求被不必要地縮小，則需構(gòu)架好從屬權(quán)利要求，確保從屬權(quán)利要求之間的引用關(guān)系的正確性，以及確保每條從屬權(quán)利要求都要包括能夠?qū)崿F(xiàn)其有益效果的技術(shù)特征，同時(shí)，確保每個(gè)從權(quán)均對應(yīng)地解決一個(gè)技術(shù)問題。

關(guān)鍵詞：必要技術(shù)特征；以說明書為依據(jù)；清楚；簡要；新穎性；創(chuàng)造性。

一、獨(dú)立權(quán)利要求在撰寫過程中容易出現(xiàn)缺少解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征的情況

（一）獨(dú)立權(quán)利要求概括的保護(hù)范圍比較大，導(dǎo)致缺少能夠解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。

1、判斷某一技術(shù)特征是否為必要技術(shù)特征，應(yīng)當(dāng)從所要解決的技術(shù)問題出發(fā)并考慮說明書描述的整體內(nèi)容，不應(yīng)簡單地將實(shí)施例中的技術(shù)特征直接認(rèn)定為必要技術(shù)特征。

（二）獨(dú)立權(quán)利要求沒有在保證其具有新穎性的前提下，將多個(gè)實(shí)施例進(jìn)行上位概括，或者對一些技術(shù)特征采用不適當(dāng)?shù)纳衔辉~，沒有有效地保護(hù)發(fā)明點(diǎn)，即，沒有從字面侵權(quán)的角度來寫。

1、在侵權(quán)判定時(shí)，等同原則都適用，但是，在適用等同原則時(shí)，或多或少地都存在一些限制，在某一些國家中，如果實(shí)施例公開的技術(shù)方案沒有被權(quán)利要求字面覆蓋，則視專利權(quán)人主動放棄該部分的保護(hù)，此時(shí)，專利權(quán)人是不能利用等同原則將權(quán)利要求的保護(hù)范圍擴(kuò)大到其放棄的部分。

（三）獨(dú)立權(quán)利要求寫進(jìn)非必要技術(shù)特征

獨(dú)權(quán)寫進(jìn)非必要技術(shù)特征，多半是由于代理人沒有根據(jù)技術(shù)交底書中給出的技術(shù)內(nèi)容而準(zhǔn)確地找到本申請的真正改進(jìn)點(diǎn)，也就是本申請的發(fā)明點(diǎn)，找準(zhǔn)本申請要解決的技術(shù)問題，然后根據(jù)這一技術(shù)問題去選擇對本申請來講必要的技術(shù)特征，獨(dú)權(quán)是在確保具有新穎性的前提下做減法。

二、獨(dú)立權(quán)利要求的布局不合理，沒有包括必要的方法、系統(tǒng)、關(guān)鍵裝置和/或關(guān)鍵部件的獨(dú)權(quán)，即不符合產(chǎn)業(yè)鏈布局原則，制造侵權(quán)優(yōu)先原則，方法與裝置并重的原則

（一）撰寫某產(chǎn)品的制造方法的權(quán)利要求時(shí)并未附加上由該方法制造而成的產(chǎn)品的獨(dú)立權(quán)利要求。

1、專利申請的目的不是獲得授權(quán)，而是授權(quán)后的使用和維權(quán)。所以，在申請專利時(shí)，一定要從產(chǎn)業(yè)鏈的角度重點(diǎn)考慮獨(dú)立權(quán)利要求的覆蓋對象和覆蓋范圍，否則將會降低專利的價(jià)值。

2、只是單純地撰寫方法權(quán)利要求，則在日后的侵權(quán)判定中，由于方法步驟的侵權(quán)證據(jù)不好獲取，很容易導(dǎo)致對方不侵權(quán)的情況，基于這一情況的考慮，對于發(fā)明點(diǎn)在于方法的發(fā)明，一定要基于方法發(fā)明構(gòu)建產(chǎn)品或虛擬裝置的權(quán)利要求，即，在撰寫方法權(quán)利要求時(shí)，也再附加上一份由該方法制造而成的裝置的權(quán)利要求。

三、方法獨(dú)立權(quán)利要求中存在撰寫不合理的情況

（一）方法獨(dú)立權(quán)利要求在步驟之前加上沒有必要的執(zhí)行主體。

1、方法獨(dú)立權(quán)利要求保護(hù)的是工藝、流程以及操作步驟等，所以，只需要在方法獨(dú)立權(quán)利要求中公開為滿足發(fā)明目的需要做出哪些步驟即可，至于每個(gè)步驟是由誰來執(zhí)行的，在很多方法中并不是使得該技術(shù)方案清楚、完整的必要技術(shù)特征。此外，若在每個(gè)步驟中寫明了執(zhí)行主體，則就在一定程度上限制了方法獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍。因而，在很多方法中，沒有必要寫出執(zhí)行主體，除非該執(zhí)行主體屬于區(qū)別技術(shù)特征。

（二）方法獨(dú)立權(quán)利要求中出現(xiàn)沒有必要的邏輯關(guān)系限制

1、對于方法獨(dú)立權(quán)利要求中的步驟，步驟間的邏輯關(guān)系不是很嚴(yán)格，如果加上了不必要的邏輯關(guān)系限制，則就會不合理地縮小方法獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍，除非步驟順序就是該方法的發(fā)明點(diǎn)，否則不建議在方法的步驟前加上邏輯關(guān)系。

四、從屬權(quán)利要求存在的撰寫問題

（一）權(quán)利要求間的引用關(guān)系不正確導(dǎo)致權(quán)利要求的保護(hù)范圍不清楚。

1、每個(gè)權(quán)利要求都應(yīng)該是清楚、完整的技術(shù)方案，對于從屬權(quán)利要求，其技術(shù)方案是指增加新的技術(shù)特征或進(jìn)一步限定的技術(shù)特征加上其引用的權(quán)利要求的技術(shù)特征的總和，一旦權(quán)利要求之間的引用關(guān)系或技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系不準(zhǔn)確，則就會導(dǎo)致權(quán)利要求技術(shù)方案的不清楚、不完整，甚至出現(xiàn)錯(cuò)誤。

2、認(rèn)真檢查從屬權(quán)利要求之間的引用關(guān)系，并通過制作權(quán)利要求樹來檢查引用關(guān)系是否錯(cuò)誤，如果有錯(cuò)誤，則根據(jù)技術(shù)邏輯關(guān)系對從屬權(quán)利要求的引用關(guān)系進(jìn)行調(diào)整。

3、確保每一條從權(quán)均對應(yīng)地解決一個(gè)技術(shù)問題，這樣，也可以有效地避免由于使得同一條從權(quán)同時(shí)解決了N多個(gè)技術(shù)問題，從而導(dǎo)致從權(quán)引進(jìn)了多個(gè)技術(shù)特征，進(jìn)一步地，避免使得從權(quán)的保護(hù)范圍過小，以致于使得從權(quán)在撰寫層次上不夠分明。

（二）獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫形式不夠明顯體現(xiàn)是獨(dú)立權(quán)利要求

1、從屬權(quán)利要求應(yīng)該在其引用的權(quán)利要求的基礎(chǔ)上進(jìn)行補(bǔ)充或進(jìn)一步限定，如果既不是補(bǔ)充，也不是限定，則該從屬權(quán)利要求實(shí)質(zhì)上就是獨(dú)立權(quán)利要求。然而，這可能導(dǎo)致三個(gè)結(jié)果：

1）基于從屬權(quán)利要求沒有引用到真正想引用的獨(dú)立權(quán)利要求。

2）可能存在單一性問題。

3）侵權(quán)時(shí)可能有麻煩。例如：權(quán)2引用權(quán)1，表面上看來權(quán)2是個(gè)從權(quán)，實(shí)質(zhì)上卻是個(gè)獨(dú)權(quán)，如果侵權(quán)方的產(chǎn)品侵犯了權(quán)2的專利權(quán)，則侵權(quán)方會辯解說：權(quán)2引用權(quán)1，所以權(quán)2中的技術(shù)方案包括權(quán)1中的技術(shù)特征，而我的產(chǎn)品中卻沒有權(quán)1的技術(shù)特征，所以，不侵權(quán)。

五、技術(shù)交底書與撰寫專利質(zhì)量的關(guān)系

技術(shù)交底書寫的好與壞對代理師而言也是非常關(guān)鍵的，然而，技術(shù)交底書寫的好與壞與發(fā)明人撰寫內(nèi)容的多少并沒有直接的必然關(guān)系。有些技術(shù)交底書內(nèi)容很簡單，但是脈絡(luò)清晰、也比較有邏輯，這樣的技術(shù)交底書有助于代理師快速地理解本申請關(guān)鍵的創(chuàng)新點(diǎn)。

有些技術(shù)交底書雖然內(nèi)容寫了很多，但讀了半天也不知道它到底要解決什么問題，它關(guān)鍵的創(chuàng)新點(diǎn)是什么，所以，發(fā)明人在技術(shù)交底書中記載的內(nèi)容的多與少并不是決定專利技術(shù)交底書的好與壞的主要因素。

然而，對于代理師而言，在專利撰寫前，一定要做好充分的準(zhǔn)備，認(rèn)真的去閱讀技術(shù)交底書，根據(jù)其記載的內(nèi)容準(zhǔn)確地找出它的主要技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)，然后，對于疑惑或是不理解的地方可以在技術(shù)交底書中進(jìn)行標(biāo)記，帶著問題去和發(fā)明人進(jìn)行電話溝通。在溝通的過程中，首先要和發(fā)明人確認(rèn)本申請所要解決的主要技術(shù)問題是什么，這塊主要是看代理師是否能準(zhǔn)確地找到本申請的關(guān)鍵核心點(diǎn)。確認(rèn)無誤后，可以針對疑惑的地方進(jìn)行溝通，從而將余下的問題一個(gè)個(gè)地解決掉。與此同時(shí)，代理師會相較于之前能夠更加準(zhǔn)確、透徹地理解技術(shù)方案，這時(shí)代理師還會給出更多、更好的等同替代的技術(shù)方案，無形中相當(dāng)于拓展了技術(shù)交底書中的內(nèi)容。所以，在撰寫專利前，和發(fā)明人進(jìn)行電話溝通非常的有必要，基本上溝通的過程就是對技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行再次理解的過程，同時(shí)，也是對權(quán)利要求進(jìn)行合理構(gòu)架的過程，溝通完成后，心中已然形成了一套完整的權(quán)利要求書。

小結(jié)：發(fā)明人一定要樂于接受代理師打來的電話，樂于將技術(shù)交底書中的內(nèi)容清楚地講解給代理師，發(fā)明人需要知道：能夠不厭其煩并且很細(xì)心地去詢問問題的代理師多半是很認(rèn)真、負(fù)責(zé)的代理師，他對案件的撰寫質(zhì)量要求較高。發(fā)明人還需知道代理師在詢問問題的時(shí)候，并不是單純的想知道“1+1=2”，更多的是在確定好這一點(diǎn)以后，他會考慮到會否有多種等同的可替代的技術(shù)方案，然后基于這些個(gè)等同方案對權(quán)利要求進(jìn)行合理的上位和拓展。

結(jié)論

若想撰寫出質(zhì)量比較高的權(quán)利要求書，則必須對專利法和審查指南有一定的深入了解，能夠?qū)⒎芍R靈活地運(yùn)用到實(shí)際的撰寫當(dāng)中去。同時(shí)，還要對技術(shù)方案能夠有個(gè)準(zhǔn)確的理解，然后，剖析出技術(shù)方案中的主要發(fā)明點(diǎn)，從而構(gòu)架出新、創(chuàng)性較高的獨(dú)立權(quán)利要求，同時(shí)，還要確保該獨(dú)立權(quán)利要求能夠具有一個(gè)合理的保護(hù)范圍。然后，對于那些優(yōu)選的技術(shù)方案可將其布設(shè)在從屬權(quán)利要求中，對于和發(fā)明點(diǎn)的關(guān)聯(lián)性較大的優(yōu)選技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)布設(shè)在獨(dú)權(quán)之后。另外，還要確保各個(gè)從屬權(quán)利要求之間的引用關(guān)系的正確性，避免出現(xiàn)權(quán)利要求的保護(hù)范圍不清楚的問題。

此外，說明書應(yīng)當(dāng)對權(quán)利要求書中的每條權(quán)利要求均進(jìn)行充分地展開式說明，即，對于每條權(quán)利要求盡可能多地去列舉多個(gè)實(shí)施例，以滿足充分公開的要求，使本領(lǐng)域技術(shù)人員按照說明書中的記載就能夠?qū)崿F(xiàn)本申請所采用的技術(shù)方案，并解決相應(yīng)的技術(shù)問題。

參考文獻(xiàn)：

[1]中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局.中華人民共和國專利法，2010.

[2]中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局.中華人民共和國專利法實(shí)施細(xì)則，2010.

[3]中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局.審查指南，2010.

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）
作者：麻雪梅北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
編輯：IPRdaily趙珍校對：IPRdaily縱橫君

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