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《專利法》第四次修改外觀設(shè)計制度調(diào)研座談會在杭州召開

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IPRdaily10年前
《專利法》第四次修改外觀設(shè)計制度調(diào)研座談會在杭州召開
《專利法》第四次修改外觀設(shè)計制度調(diào)研座談會在杭州召開

 

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6月2日,為推進《專利法》第四次修改工作,廣泛聽取意見和建議,《專利法》第四次修改調(diào)研座談會在杭州召開。國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局外觀設(shè)計審查部、省知識產(chǎn)權(quán)局、專利代理事務(wù)所及企業(yè)代表參加了會議。

 

座談會上,外觀設(shè)計審查部領(lǐng)導介紹了本次調(diào)研的目的、意義,外觀設(shè)計審查部審查員對《專利法》修改草案中涉及外觀設(shè)計制度的內(nèi)容作了逐條說明,并提出了擬征詢的問題。與會代表結(jié)合具體條款的修改,結(jié)合日常專利代理工作及企業(yè)專利管理工作中遇到的問題,圍繞加強專利保護、完善外觀設(shè)計專利審查制度、優(yōu)化專利維權(quán)環(huán)境等問題進行了廣泛深入的討論。

 

據(jù)悉,外觀設(shè)計專利制度的修改是《專利法》第四次修改中的熱點、難點,本次調(diào)研座談會的召開,將有力促進全省企業(yè)對外觀設(shè)計專利制度的理解與運用,提升企業(yè)知識產(chǎn)權(quán)保護和運用的能力和水平。

 

 

 

來源:浙江省知識產(chǎn)權(quán)局 作者:周洪濤 編輯:IPRdaily 趙珍 -------------

 

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