發(fā)明專利申請
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原標題:研發(fā)必修課:技術(shù)交底書,應(yīng)該這樣寫!
技術(shù)交底書是撰寫專利申請文件的重要依據(jù),它的內(nèi)容直接影響了專利申請質(zhì)量和溝通成本。本期將介紹交底書的包含要素,適合企業(yè)人員學(xué)習(xí)參考。
課程重點:
? 專利技術(shù)交底書的定義與重要性
? 技術(shù)交底書必須講清楚的3個問題
? 技術(shù)交底書與專利申請文件的5大差別
? 技術(shù)交底書的6個組成部分
? 5個撰寫技術(shù)背景、發(fā)明內(nèi)容的常見紕漏
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▼課件參考
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編輯:IPRdaily王穎 校對:IPRdaily縱橫君
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