企業(yè)IPR管理經(jīng)驗(yàn)（九）｜淺談專利申請(qǐng)文件的撰寫規(guī)范

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作者：陳易華

原標(biāo)題：淺談專利申請(qǐng)文件的撰寫規(guī)范

由于專利申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量直接影響一項(xiàng)專利權(quán)能否形成、專利權(quán)人能否獲得有效的合法、最大化的法律保護(hù)，因此，專利代理人或?qū)＠珜懭藛T應(yīng)當(dāng)努力減少專利申請(qǐng)文件的撰寫損失，使其趨于零，從而最大限度地保護(hù)申請(qǐng)人的利益。

專利制度為現(xiàn)代市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)的運(yùn)作提供了重要的規(guī)則。按照這一規(guī)則，誰擁有專利，誰就擁有市場(chǎng)主動(dòng)權(quán)，而擁有專利的關(guān)鍵不但在于專利的申請(qǐng)，更在于專利權(quán)的獲得和專利權(quán)的有效性。只有在申請(qǐng)階段保證專利申請(qǐng)文件的質(zhì)量，才可能保證專利權(quán)的獲得及其有效性，從而進(jìn)一步保證市場(chǎng)運(yùn)作的收益。

專利申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量，對(duì)一項(xiàng)專利權(quán)的取得和保護(hù)的影響表現(xiàn)在多個(gè)方面，對(duì)一項(xiàng)專利權(quán)能否形成、專利權(quán)人能否獲得有效的合法、最大化的法律保護(hù)，起著關(guān)鍵的作用。專利法及專利法實(shí)施細(xì)則均對(duì)專利申請(qǐng)文件的撰寫規(guī)范提出了詳盡的要求。

專利申請(qǐng)文件撰寫的基本原則

專利申請(qǐng)文件的撰寫不同于純技術(shù)文件，尤其是權(quán)利要求書和說明書是發(fā)明和實(shí)用新型專利申請(qǐng)中最重要的兩個(gè)部分，它們的撰寫是一項(xiàng)法律性、技術(shù)性很強(qiáng)的工作。專利申請(qǐng)文件的撰寫兼具法律性和技術(shù)性，其撰寫的好壞將會(huì)直接影響到發(fā)明創(chuàng)造能否獲得專利授權(quán)以及專利申請(qǐng)?jiān)趯＠值膶徟俣取?br/>

為提高專利申請(qǐng)文件的質(zhì)量，加快專利審批進(jìn)度，使發(fā)明創(chuàng)造得到較好的保護(hù)，撰寫專利申請(qǐng)文件需要遵循的基本原則包括：

1、嚴(yán)密性：避免不必要、不恰當(dāng)?shù)挠谜Z，或者不嚴(yán)肅的口語化用語，以避免對(duì)專利的保護(hù)范圍造成無謂的限制或損害。

2、準(zhǔn)確性：內(nèi)容的描述，用語應(yīng)當(dāng)清楚、準(zhǔn)確、無歧義。

3、規(guī)范性：符合專利法、專利法實(shí)施細(xì)則以及審查指南的規(guī)定。

4、邏輯性：內(nèi)容的描述應(yīng)當(dāng)保持前后一致，富有邏輯性，不能前后矛盾，模糊不清。

5、條理性：內(nèi)容的描述應(yīng)條理清晰，結(jié)構(gòu)合理。

6、客觀性：在描述技術(shù)內(nèi)容時(shí)，保持對(duì)技術(shù)內(nèi)容的客觀分析，避免在技術(shù)內(nèi)容中加入主觀臆斷的內(nèi)容。

專利說明書的撰寫原則

說明書是一個(gè)技術(shù)性文件，是專利申請(qǐng)文件最重要的一部分，是申請(qǐng)專利的核心文件。同時(shí)，說明書也是一個(gè)法律性文件，在實(shí)踐當(dāng)中，說明書撰寫的好與差，將會(huì)影響到專利權(quán)是否能夠獲得。

筆者認(rèn)為，在撰寫專利說明書時(shí)，需要遵循的原則包括：

1、再創(chuàng)作：說明書基于技術(shù)交底書，是對(duì)技術(shù)交底書的再創(chuàng)作，專利代理人或?qū)＠珜懭藛T應(yīng)從專業(yè)角度出發(fā)對(duì)技術(shù)交底書內(nèi)容的描述思路、語言進(jìn)行充分調(diào)整和修改，包括：

1.1、對(duì)技術(shù)交底書中提供的技術(shù)方案應(yīng)有所擴(kuò)展，不能僅依據(jù)技術(shù)交底書撰寫說明書，應(yīng)將具體實(shí)施方式擴(kuò)展至合理的數(shù)目和范圍；

1.2、對(duì)技術(shù)交底書中描述的現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容以及本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行整理和調(diào)整，以滿足說明書背景技術(shù)和具體實(shí)施方式部分的要求；

1.3、增加或補(bǔ)充部分技術(shù)內(nèi)容，以達(dá)到公開充分的要求；

1.4、對(duì)技術(shù)描述的思路進(jìn)行整理，增加描述的邏輯性和條理性，尤其要突出描述與權(quán)利要求相對(duì)應(yīng)的實(shí)施方式；

1.5、修改用語不嚴(yán)謹(jǐn)、不規(guī)范之處，消除用語前后不一致和錯(cuò)別字明顯的形式性問題。

2、充分理解：在撰寫專利說明書之前，專利代理人或?qū)＠珜懭藛T應(yīng)當(dāng)充分理解技術(shù)交底書的內(nèi)容，包括：

2.1、通過查閱網(wǎng)上資料、書籍或?qū)＠墨I(xiàn)等資料，熟悉發(fā)明內(nèi)容所涉及到的技術(shù)的基本知識(shí)；

2.2、充分理解技術(shù)交底書中的技術(shù)內(nèi)容，明確現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題、本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)之間的區(qū)別性技術(shù)特征、本發(fā)明所采取的技術(shù)方案的要點(diǎn)以及相應(yīng)的有益效果。

3、謹(jǐn)慎刪改：充分公開是專利說明書的一個(gè)基本要求，原則上不允許對(duì)發(fā)明人在技術(shù)交底書中提供的技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行實(shí)質(zhì)性刪除和修改；當(dāng)必須對(duì)發(fā)明人提供的實(shí)質(zhì)性技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行實(shí)質(zhì)性刪除和修改時(shí)，應(yīng)與發(fā)明人進(jìn)行充分溝通和討論，并得到發(fā)明人的（書面）確認(rèn)。

4、技術(shù)語言與法律語言的結(jié)合：在撰寫專利說明書時(shí)，應(yīng)當(dāng)以自然語言描述技術(shù)方案，尤其是涉及計(jì)算機(jī)程序的專利申請(qǐng)，應(yīng)當(dāng)以自然語言的方式描述計(jì)算機(jī)程序和流程；對(duì)容易產(chǎn)生歧義的用語應(yīng)當(dāng)反復(fù)推敲，尤其是對(duì)作為兼顧技術(shù)語言與法律語言的嚴(yán)謹(jǐn)性的謂語的動(dòng)詞的反復(fù)推敲；同時(shí)還應(yīng)避免所用的描述用語過于生硬或者刻板。

5、層次清楚：在撰寫具體實(shí)施方式時(shí)，應(yīng)當(dāng)使具體實(shí)施方式的邏輯結(jié)構(gòu)、體例層次清楚：

根據(jù)情況的需要，在撰寫具體實(shí)施方式時(shí)可以采用“金字塔”結(jié)構(gòu)或者“倒金字塔”結(jié)構(gòu)，但整個(gè)具體實(shí)施方式在結(jié)構(gòu)上應(yīng)保持一致；在后出現(xiàn)的技術(shù)特征或術(shù)語，應(yīng)當(dāng)在前有所說明，不得突然出現(xiàn)在前未出現(xiàn)的技術(shù)特征或術(shù)語；同時(shí)，前后段落或上下文之間應(yīng)有良好的承接關(guān)系，應(yīng)避免“東拼西湊”、“東拉西扯”、“前后不一致”、“邏輯結(jié)構(gòu)不清”等情況的出現(xiàn)。

6、充分公開：對(duì)具體實(shí)施方式中的技術(shù)方案，在描述上應(yīng)當(dāng)充分公開，清楚、且具體地說明了整體技術(shù)方案的內(nèi)容；對(duì)技術(shù)方案中的技術(shù)特征，應(yīng)當(dāng)盡可能闡述每個(gè)技術(shù)特征的特征、用途、工作原理，以及盡可能闡述各技術(shù)特征與其它技術(shù)特征的連接關(guān)系或工作關(guān)系等，從局部到整體或從整體到局部，或從抽象到具體地體現(xiàn)出整個(gè)技術(shù)方案。

7、適當(dāng)簡(jiǎn)要：背景技術(shù)中盡量不要引用專利文獻(xiàn)或技術(shù)文獻(xiàn)，以免在申請(qǐng)國(guó)外專利時(shí)，可能需要翻譯該引用文獻(xiàn)；背景技術(shù)中盡量減少對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的描述，使用語言應(yīng)當(dāng)簡(jiǎn)練，以減少向國(guó)外申請(qǐng)專利時(shí)的翻譯費(fèi)用；減少對(duì)重復(fù)的技術(shù)特征和技術(shù)方案的說明，采用“結(jié)合”、“參照”或“前述”等用語簡(jiǎn)要概括；涉及到具體電路的，如果發(fā)明創(chuàng)造不在于電路本身，不要將具體的電路圖加入到說明書中，除非有必要，且最好以框圖的方式對(duì)該電路進(jìn)行描述。

8、實(shí)施例與權(quán)利要求相對(duì)應(yīng)：在撰寫專利說明書的具體實(shí)施方式部分時(shí)，尤其注意突出描述與權(quán)利要求相對(duì)應(yīng)的實(shí)施例，必要時(shí)應(yīng)當(dāng)說明與相應(yīng)實(shí)施例相對(duì)應(yīng)的有益效果，在描述實(shí)施例時(shí)可以采取就近處理的原則。

專利權(quán)利要求的撰寫原則

權(quán)利要求書不同于通常意義下的文學(xué)作品，文學(xué)作品的用詞活潑、語法結(jié)構(gòu)豐富、語言富有藝術(shù)感染力，力求給讀者留下深刻印象。權(quán)利要求書也不同于技術(shù)文件，技術(shù)文件的用詞要求準(zhǔn)確、嚴(yán)謹(jǐn)、符合邏輯。權(quán)利要求書是技術(shù)性和法律性相結(jié)合的法律文件，其用詞不但要求準(zhǔn)確、嚴(yán)謹(jǐn)、符合邏輯，而且需要高度的概括性語言表達(dá)方式。

撰寫權(quán)利要求是一項(xiàng)技術(shù)性和法律性很強(qiáng)的工作，有時(shí)難免把對(duì)實(shí)現(xiàn)發(fā)明目的、效果不甚重要的技術(shù)特征寫入了獨(dú)立權(quán)利要求中，大大縮小了專利的保護(hù)范圍，筆者認(rèn)為，在撰寫專利權(quán)利要求時(shí)，需要遵循的原則包括：

1、范圍合理：撰寫?yīng)毩?quán)利要求時(shí)，應(yīng)當(dāng)盡量擴(kuò)大保護(hù)范圍，但應(yīng)當(dāng)保證權(quán)利要求所限定的技術(shù)方案滿足新穎性和創(chuàng)造性為限。

2、全面覆蓋：在滿足單一性的情況下，獨(dú)立權(quán)利要求的布局應(yīng)當(dāng)嚴(yán)密，應(yīng)當(dāng)盡可能覆蓋所有可能存在的侵權(quán)情況；當(dāng)發(fā)明中的方法或者產(chǎn)品中有可能單獨(dú)被商業(yè)利用時(shí)，要采取相應(yīng)的權(quán)利要求予以保護(hù)。

3、逐步刪除：對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求中必要技術(shù)特征的提煉，可以采取逐步刪除的方式；獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足其所限定的技術(shù)方案的完整性，且能夠?qū)崿F(xiàn)發(fā)明目的；同時(shí)刪除非必要技術(shù)特征。

4、單一性：在存在多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)當(dāng)注意不同的獨(dú)立權(quán)利要求之間的單一性，在單一性是依靠特定技術(shù)特征來保證時(shí)，應(yīng)當(dāng)確認(rèn)該特定技術(shù)特征是必要技術(shù)特征，且是發(fā)明點(diǎn)；在多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求之間不滿足單一性時(shí)，建議分案。

5、連接關(guān)系：在撰寫產(chǎn)品權(quán)利要求時(shí)，在寫明產(chǎn)品組成部分的同時(shí)，應(yīng)當(dāng)寫明產(chǎn)品組成部分之間的連接關(guān)系，產(chǎn)品組成部分之間的連接關(guān)系包括各部分之間的硬連接關(guān)系，或者根據(jù)信號(hào)或者數(shù)據(jù)處理流向產(chǎn)生的邏輯連接關(guān)系。

6、層層遞減：從屬權(quán)利要求是對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求中技術(shù)特征的進(jìn)一步限定，或者是對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求所限定的技術(shù)特征的進(jìn)一步補(bǔ)充；從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)與專利說明書中的具體實(shí)施方式相對(duì)應(yīng)，其布局可以采取層層遞減的原則；應(yīng)特別注意，獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍非常大或較大時(shí)，從屬權(quán)利要求應(yīng)逐步縮小其保護(hù)范圍，而不應(yīng)立即限定在一個(gè)或多個(gè)非常小或較小的保護(hù)范圍，尤其在撰寫實(shí)用新型專利申請(qǐng)文件時(shí)。

7、鏈?zhǔn)揭煤蜆錉钜茫簩?duì)于創(chuàng)造性較高的發(fā)明，從屬權(quán)利要求的引用以樹狀引用為主；對(duì)于創(chuàng)造性較低的發(fā)明，從屬權(quán)利要求的引用以鏈?zhǔn)揭脼橹鳌?br/>

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來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：陳易華

編輯：IPRdaily王穎校對(duì)：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：企業(yè)IPR管理經(jīng)驗(yàn)（九）｜淺談專利申請(qǐng)文件的撰寫規(guī)范（點(diǎn)擊標(biāo)題查看原文）

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