臨陣磨刀！必看專利代理人考試實(shí)務(wù)6大要點(diǎn)及4大撰寫注意事項(xiàng)

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原標(biāo)題：臨陣磨刀！必看專利代理人考試實(shí)務(wù)6大要點(diǎn)及4大撰寫注意事項(xiàng)

今天是2016年全國(guó)專利代理人資格考試的日子，下面總結(jié)了專利代理人考試必考6大要點(diǎn)內(nèi)容、4大撰寫注意事項(xiàng)和4大答題規(guī)范，供考友們參考學(xué)習(xí)。

1、不具有新穎性的論述(常見(jiàn)于無(wú)效請(qǐng)求、給客戶意見(jiàn)題型中)

(1) 現(xiàn)有技術(shù)影響新穎性

權(quán)利要求1要求保護(hù)一種……，對(duì)比文件1的公開(kāi)日是×年×月×日，早于本申請(qǐng)的申請(qǐng)日，可作為本申請(qǐng)的現(xiàn)有技術(shù)。對(duì)比文件1具體公開(kāi)了一種……，并具體公開(kāi)了如下技術(shù)特征(參見(jiàn)說(shuō)明書(shū)第×頁(yè)第×段至第×頁(yè)第×段以及圖×)：

一種……【特征對(duì)比，按權(quán)利要求對(duì)部件的描述順序引入對(duì)比文件中部件的名稱、連接關(guān)系】(相當(dāng)于權(quán)利要求1……【對(duì)照權(quán)利要求的技術(shù)特征】)。

由此可見(jiàn)，該權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案與對(duì)比文件1所公開(kāi)的內(nèi)容相比，僅僅是文字表達(dá)方式上略有差別，技術(shù)方案實(shí)質(zhì)上相同，且兩者屬于相同的……領(lǐng)域，要解決的技術(shù)問(wèn)題相同和產(chǎn)生的效果相同，都是……，因此該權(quán)利要求1不具備新穎性，不符合專利法第二十二條第二款的規(guī)定。

權(quán)利要求×是權(quán)利要求×的從屬權(quán)利要求，對(duì)比文件1公開(kāi)了其附加技術(shù)特征：……。因此當(dāng)其引用的權(quán)利要求×不具備新穎性時(shí)，該從屬權(quán)利要求也不具備專利法第二十二條第二款所規(guī)定的新穎性。

(2) 抵觸申請(qǐng)影響新穎性

權(quán)利要求1要求保護(hù)一種……，對(duì)比文件1是申請(qǐng)?jiān)谙龋_(kāi)在后的中國(guó)專利申請(qǐng)文件(或?qū)＠募?。對(duì)比文件1具體公開(kāi)了一種……，并具體公開(kāi)了如下技術(shù)特征(參見(jiàn)說(shuō)明書(shū)第×頁(yè)第×段至第×頁(yè)第×段以及圖×)：一種【按權(quán)利要求對(duì)部件的描述順序引入對(duì)比文件的名稱】(相當(dāng)于權(quán)利要求1……【對(duì)照權(quán)利要求的技術(shù)特征】)。

由此可見(jiàn)，該權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案與對(duì)比文件1所公開(kāi)的內(nèi)容相比，僅僅是文字表達(dá)方式上略有差別，技術(shù)方案實(shí)質(zhì)上相同，且兩者屬于相同的……領(lǐng)域，要解決的技術(shù)問(wèn)題相同和產(chǎn)生的效果相同，都是……，因此對(duì)比文件1是該發(fā)明的抵觸申請(qǐng)，該權(quán)利要求1不具備專利法第二十二條第二款規(guī)定的新穎性。

2、具有新穎性的論述(常見(jiàn)于撰寫后回答問(wèn)題，答復(fù)審查意見(jiàn)通知書(shū)，無(wú)效答辯，給客戶的意見(jiàn)題型中)

論述具有新穎性相對(duì)比較簡(jiǎn)單，答題得分點(diǎn)在于有幾份對(duì)比文件，就要論述幾次具有新穎性的原因。

答題時(shí)，只要找出技術(shù)領(lǐng)域，技術(shù)特征，解決的技術(shù)問(wèn)題，效果任何一項(xiàng)不同，即可得出權(quán)利要求具有新穎性的結(jié)論。

比如，論述特征未被公開(kāi)的方式：

對(duì)比文件1沒(méi)有公開(kāi)“……”這一技術(shù)特征，因此權(quán)利要求1具有新穎性，符合專利法第二十二條第二款的規(guī)定。

3、不具有創(chuàng)造性的論述(常見(jiàn)于無(wú)效請(qǐng)求、給客戶意見(jiàn)題型中)

不具有創(chuàng)造性考試中一般都是兩份對(duì)比文件結(jié)合破壞權(quán)利要求的創(chuàng)造性。論述模板如下：

對(duì)比文件1和對(duì)比文件2都屬于現(xiàn)有技術(shù)，可以用于評(píng)價(jià)專利申請(qǐng)權(quán)利要求的創(chuàng)造性。

對(duì)比文件1技術(shù)領(lǐng)域與本發(fā)明相同，公開(kāi)的特征也最多，(所要解決的技術(shù)問(wèn)題與本發(fā)明最為接近)技術(shù)效果也最為接近，因此對(duì)比文件1是最接近的現(xiàn)有技術(shù)。

對(duì)比文件1公開(kāi)了一種……，并在說(shuō)明書(shū)第×頁(yè)第×段至第×頁(yè)第×段以及圖×)具體公開(kāi)了以下的技術(shù)特征：【按照權(quán)利要求技術(shù)特征的順序引入對(duì)比文件的部件名稱和連接關(guān)系】(即，權(quán)利要求1中的××)……;

該權(quán)利要求與對(duì)比文件1相比，區(qū)別技術(shù)特征是：……。

基于上述區(qū)別技術(shù)特征可以確定，權(quán)利要求1相對(duì)于對(duì)比文件1實(shí)際要解決的技術(shù)問(wèn)題是……。

上述區(qū)別特征已被對(duì)比文件2公開(kāi)(參見(jiàn)對(duì)比文件2的第×頁(yè)第×段至第×頁(yè)第×段以及圖×)，而且該特征在對(duì)比文件2中所起的作用與其在本發(fā)明中為解決其技術(shù)問(wèn)題所起的作用相同，都是……，也就是說(shuō)對(duì)比文件2給出了將該技術(shù)特征用于對(duì)比文件1以解決上述技術(shù)問(wèn)題的啟示，進(jìn)而使得本領(lǐng)域技術(shù)人員在面對(duì)……的技術(shù)問(wèn)題時(shí)，有動(dòng)機(jī)將對(duì)比文件2與對(duì)比文件1結(jié)合起來(lái)構(gòu)成該權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案。因此，該技術(shù)方案相對(duì)于對(duì)比文件1和對(duì)比文件2的結(jié)合是顯而易見(jiàn)的，權(quán)利要求1沒(méi)有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步，不具有創(chuàng)造性，不符合專利法第二十二條第三款的規(guī)定。

4、具有創(chuàng)造性的論述(常見(jiàn)于撰寫后回答問(wèn)題，答復(fù)審查意見(jiàn)通知書(shū)，無(wú)效答辯，給客戶的意見(jiàn)題型中)，具有創(chuàng)造性有兩種常見(jiàn)論述模板：

(1)因技術(shù)方案不同而具有創(chuàng)造性

對(duì)比文件1公開(kāi)的技術(shù)內(nèi)容最多，與本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題最接近，因此對(duì)比文件1是本發(fā)明的最接近對(duì)比文件。

權(quán)利要求1與該對(duì)比文件1所披露內(nèi)容的區(qū)別在于：……，該特征能解決的技術(shù)問(wèn)題是……。對(duì)比文件1中未披露上述技術(shù)特征，也未給出解決上述技術(shù)問(wèn)題的啟示。

對(duì)比文件2也沒(méi)有公開(kāi)上述區(qū)別技術(shù)特征，即使對(duì)比文件2和對(duì)比文件1結(jié)合起來(lái)，也解決不了上述問(wèn)題。另外，上述區(qū)別特征也不是公知常識(shí)。因此，權(quán)利要求1的技術(shù)方案相對(duì)于這兩篇對(duì)比文件是非顯而易見(jiàn)的，因此，該方案具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)。

由于采用上述結(jié)構(gòu)，……，因此權(quán)利要求1的技術(shù)方案也具有顯著的進(jìn)步。綜上所述，權(quán)利要求1相對(duì)于上述兩項(xiàng)現(xiàn)有技術(shù)具有專利法第22條第3款規(guī)定的創(chuàng)造性。

(2)因區(qū)別特征的作用不同而具有創(chuàng)造性

由于對(duì)比文件1與本申請(qǐng)的技術(shù)領(lǐng)域相同，所解決的技術(shù)問(wèn)題相近，且公開(kāi)本申請(qǐng)的技術(shù)特征最多，因此可以認(rèn)為對(duì)比文件1是最接近的現(xiàn)有技術(shù)。

將權(quán)利要求1與對(duì)比文件1相比較可知，區(qū)別在于：……，由此可知本發(fā)明實(shí)際要解決的技術(shù)問(wèn)題是……。

對(duì)比文件1沒(méi)有解決上述技術(shù)問(wèn)題，也沒(méi)有給出解決上述技術(shù)問(wèn)題的任何啟示。

雖然對(duì)比文件2中所公開(kāi)……，但是，區(qū)別技術(shù)特征在對(duì)比文件2中所起的作用與本發(fā)明完全不同，因而不可能很容易地就想到……來(lái)解決最接近現(xiàn)有技術(shù)所存在的技術(shù)問(wèn)題，也就是說(shuō)對(duì)比文件2未給出解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題的啟示，因而由這兩篇對(duì)比文件得到權(quán)利要求1的技術(shù)方案對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是非顯而易見(jiàn)的，具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)。

此外，權(quán)利要求1的技術(shù)方案能夠獲得……的效果，因而相對(duì)于這兩篇對(duì)比文件具有顯著的進(jìn)步。綜上所述，權(quán)利要求1相對(duì)于這兩篇對(duì)比文件具有專利法第22條第3款規(guī)定的創(chuàng)造性。

5、分案與合案的論述

(1)論述分案的理由

獨(dú)立權(quán)利要求1、X中均包含有“……”這一體現(xiàn)發(fā)明對(duì)現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的特定技術(shù)特征，因此，這兩項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求在技術(shù)上相互關(guān)聯(lián)，它們屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思，符合《專利法》第三十一條第一款的規(guī)定，可以將它們合案申請(qǐng)。

(2)論述分案的理由

第一份專利申請(qǐng)的獨(dú)立權(quán)利要求1相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的技術(shù)特征(或權(quán)利要求1的特定技術(shù)特征)為“……”。

第二份專利申請(qǐng)的獨(dú)立權(quán)利要求1相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的技術(shù)特征為“……”。

由此可見(jiàn)，兩個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求對(duì)現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的技術(shù)特征(特征技術(shù)特征)既不相同，彼此之間在技術(shù)上也無(wú)相互關(guān)聯(lián)，從而兩個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求之間并不包含相同或相應(yīng)的特定技術(shù)特征，不屬于一個(gè)總的發(fā)明構(gòu)思，彼此之間不具備單一性，因此應(yīng)當(dāng)分別作為兩份專利申請(qǐng)?zhí)岢觥?以有利于保護(hù)申請(qǐng)人利益)

6、缺少必要技術(shù)特征與專利法第二十六條三款

(1)缺少必要技術(shù)特征只能用于獨(dú)立權(quán)利要求的評(píng)述

專利法實(shí)施細(xì)則第二十條第二款的規(guī)定，獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)從整體上反映發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)方案，記載解決技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征。

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是……。說(shuō)明書(shū)中描述，通過(guò)……來(lái)解決上述技術(shù)問(wèn)題。因此，××是解決技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征。權(quán)利要求1中未未記載上述必要技術(shù)特征，所以不符合專利法實(shí)施細(xì)則第二十條第二款的規(guī)定。

(2)專利法第二十六條第三款

專利法第二十六條第三款有兩方面的含義：不清楚和不支持。

考試中，挑出權(quán)利要求不清楚比較簡(jiǎn)單。如果是用不支持，需要想出一個(gè)涵蓋在權(quán)利要求概括范圍內(nèi)的例子，但是無(wú)法解決相應(yīng)的技術(shù)問(wèn)題。

以上模板已經(jīng)是精簡(jiǎn)過(guò)的，切不可再做進(jìn)一步精煉!

撰寫權(quán)利要求時(shí)，注意判斷主題之間的邏輯關(guān)系，實(shí)施例之間的邏輯關(guān)系，發(fā)明點(diǎn)之間的邏輯關(guān)系。

撰寫步驟：

1、判斷主題

閱讀材料時(shí)首先判斷今年考試的技術(shù)交底書(shū)有幾個(gè)主題?每一個(gè)主題都要寫成一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求。一般來(lái)說(shuō)，實(shí)務(wù)考題只涉及一個(gè)主題。

2、判斷發(fā)明點(diǎn)

起到基礎(chǔ)作用的區(qū)別特征是發(fā)明點(diǎn)。判斷區(qū)別特征時(shí)要注意，切勿對(duì)創(chuàng)造性要求過(guò)高。交底材料中，凡是特征未被公開(kāi)，且有作用，都可以作為區(qū)別特征。區(qū)別特征可能會(huì)找到多個(gè)，起到最基礎(chǔ)作用的區(qū)別特征是發(fā)明點(diǎn)。

3、一個(gè)發(fā)明點(diǎn)的處理

如果判斷出只有一個(gè)發(fā)明點(diǎn)，繼續(xù)判斷發(fā)明點(diǎn)是一個(gè)實(shí)施例還是多個(gè)實(shí)施例。一個(gè)實(shí)施例不用考慮概括問(wèn)題，兩個(gè)以上實(shí)施例需要概括為一個(gè)權(quán)利要求。

4、并列發(fā)明點(diǎn)的處理

對(duì)于兩個(gè)以上并列發(fā)明點(diǎn)，第一個(gè)發(fā)明點(diǎn)按照正常思路撰寫，第二個(gè)發(fā)明點(diǎn)做分案或者另案申請(qǐng)。

1、思考后作答

用30分鐘至1小時(shí)熟悉技術(shù)內(nèi)容、看清試題要求，捋清思路尤其是看清試題說(shuō)明和答題位置，花10分鐘看清試題說(shuō)明，今年有哪些要求。按照要求思考答題內(nèi)容。

2、落筆無(wú)悔

筆試須保持卷面整潔、干凈，爭(zhēng)取給判卷人員良好印象，機(jī)試須記得保存文檔。不管筆試和機(jī)試都要合理分配每個(gè)題目的答題時(shí)間并嚴(yán)格執(zhí)行。

3、問(wèn)一答十

考試經(jīng)常問(wèn)題不甚明確。凡是知道的內(nèi)容，盡量多答。尤其是要注意回答的對(duì)象是專利復(fù)審委員會(huì)、專利局，還是客戶。給客戶回答問(wèn)題，注意要從概念、原理入手。

4、不糾結(jié)

(1)對(duì)于劃界問(wèn)題，不必糾結(jié)，只要出現(xiàn)“其特征在于”，大致正確即可。

(2)必要技術(shù)特征

必要技術(shù)特征根據(jù)發(fā)明點(diǎn)確定的技術(shù)問(wèn)題而定，在發(fā)明點(diǎn)判斷正確的情況下，少寫幾個(gè)必要技術(shù)特征，不會(huì)導(dǎo)致整個(gè)考試不及格。

來(lái)源：盤古網(wǎng)

編輯：IPRdaily趙珍          校對(duì)：IPRdaily縱橫君

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