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“本文從IPR這一角色在企業(yè)的專利挖掘工作出發(fā),以工作價(jià)值的角度來討論專利創(chuàng)新點(diǎn)的產(chǎn)生過程?!?/strong>
來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)
作者:史珍珍
現(xiàn)有很多成熟的專利挖掘解決方案,比如分解研發(fā)項(xiàng)目直至尋找到創(chuàng)新點(diǎn),或者從技術(shù)問題出發(fā)尋找創(chuàng)新點(diǎn),都是針對(duì)于創(chuàng)新點(diǎn)的客觀來源的角度來分析,本文從IPR這一角色在企業(yè)的專利挖掘工作出發(fā),以工作價(jià)值的角度來討論專利創(chuàng)新點(diǎn)的產(chǎn)生過程。根據(jù)創(chuàng)新點(diǎn)的成熟度大致分為三種不同的產(chǎn)生過程,從0到1,從<0.5到1,從>0.5到1。
一、從0到1
根據(jù)不同的專利申請(qǐng)目的,IPR應(yīng)當(dāng)圍繞創(chuàng)新點(diǎn)進(jìn)行技術(shù)方案的擴(kuò)展,消除研發(fā)人員的專利盲區(qū),應(yīng)用專利理論將單一的技術(shù)方案擴(kuò)展成某一技術(shù)方案的專利組合包。
(1)對(duì)抗競爭的權(quán)利平衡
IPR通過檢索分析得到可能對(duì)本企業(yè)產(chǎn)品造成侵權(quán)風(fēng)險(xiǎn)的專利,引導(dǎo)研發(fā)人員針對(duì)這些風(fēng)險(xiǎn)專利進(jìn)行規(guī)避設(shè)計(jì),規(guī)避設(shè)計(jì)的技術(shù)方案形成新的專利,一方面規(guī)避了侵權(quán)風(fēng)險(xiǎn),一方面是對(duì)競爭對(duì)手技術(shù)發(fā)展的包繞,為后續(xù)可能的訴訟儲(chǔ)備權(quán)利平衡的籌碼。
(2)產(chǎn)業(yè)鏈、技術(shù)鏈的上下擴(kuò)展
處于產(chǎn)業(yè)鏈中游的企業(yè)可以向上游或下游拓展延伸,有條件企業(yè)的IPR可以引導(dǎo)向上游進(jìn)入原材料、初級(jí)產(chǎn)品方向擴(kuò)展進(jìn)行專利挖掘,或者向下游應(yīng)用產(chǎn)品方向擴(kuò)展進(jìn)行專利挖掘,比如通信領(lǐng)域可以采用芯片或器件--單板或模塊--設(shè)備--系統(tǒng)--網(wǎng)絡(luò)--配套的制造工藝、測(cè)試方法的思路進(jìn)行擴(kuò)展,IPR還需要跟蹤本領(lǐng)域所依賴技術(shù)的發(fā)展方向,依賴技術(shù)引入后產(chǎn)生的新業(yè)務(wù)應(yīng)用也是專利布局點(diǎn)。
(3)技術(shù)趨勢(shì)的合理預(yù)測(cè)
專利思路除了可以來自于當(dāng)前的研發(fā)項(xiàng)目,有條件企業(yè)的IPR可以引導(dǎo)研發(fā)預(yù)測(cè)本行業(yè)技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì),針對(duì)預(yù)測(cè)的未來有較大應(yīng)用前景的技術(shù)方向的技術(shù)分支進(jìn)行專利布局。
(4)跨研發(fā)團(tuán)隊(duì)的方案整合
克服部門架構(gòu)帶來的創(chuàng)新點(diǎn)割裂,有的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)分散在多個(gè)研發(fā)團(tuán)隊(duì)內(nèi),在一個(gè)研發(fā)團(tuán)隊(duì)中存在某一創(chuàng)新點(diǎn),在另一個(gè)研發(fā)團(tuán)隊(duì)中存在另一個(gè)對(duì)應(yīng)的創(chuàng)新點(diǎn),而單個(gè)研發(fā)團(tuán)隊(duì)針對(duì)該技術(shù)方案的創(chuàng)新均不足以形成技術(shù)方案,這時(shí)就需要IPR將多個(gè)研發(fā)團(tuán)隊(duì)的分散技術(shù)方案基于專利理論進(jìn)行有機(jī)的整合,從而滿足可專利的要求。
二、從<0.5到1
研發(fā)人員發(fā)現(xiàn)了技術(shù)問題,并且有初步的技術(shù)方案,能夠?qū)崿F(xiàn)一定的技術(shù)效果,但是當(dāng)前的技術(shù)方案不足以滿足創(chuàng)造性的要求。
(1)升級(jí)技術(shù)問題
IPR引導(dǎo)解決了當(dāng)前的技術(shù)問題基礎(chǔ)上是否引入了新技術(shù)問題,提取技術(shù)特征參數(shù),組建新技術(shù)問題和原始技術(shù)效果的矛盾對(duì),將解決新技術(shù)問題的技術(shù)方案疊加進(jìn)來形成優(yōu)化的技術(shù)方案,形成新技術(shù)問題-優(yōu)化技術(shù)方案-優(yōu)化技術(shù)效果的邏輯通路。
(2)適當(dāng)化技術(shù)問題
針對(duì)研發(fā)提出的技術(shù)問題,IPR進(jìn)行適當(dāng)化處理,因?yàn)閷@麑?shí)際要解決的技術(shù)問題的確定對(duì)專利的創(chuàng)造性有一劍封喉的效果,確定發(fā)明實(shí)際所要解決的技術(shù)問題,應(yīng)當(dāng)在區(qū)別技術(shù)特征在本專利技術(shù)方案中實(shí)際所產(chǎn)生的作用、功能或者技術(shù)效果的基礎(chǔ)上,進(jìn)行適當(dāng)?shù)母爬?。技術(shù)問題定位的過于上位或者下位(技術(shù)問題的技術(shù)手段化)都會(huì)影響創(chuàng)造性,因?yàn)橐坏┩ㄟ^上位或者下位后的技術(shù)問題或技術(shù)效果去檢索對(duì)比文件,會(huì)擴(kuò)大可用的對(duì)比文件的范圍從而降低創(chuàng)造性。
(3) 新增應(yīng)用場景
研發(fā)可以提出了某一個(gè)原理性的技術(shù)方案,此時(shí)的創(chuàng)造性不足,IPR引導(dǎo)將該原理性方案適用于某一具體的應(yīng)用場景,讓場景性技術(shù)特征、場景性技術(shù)特征和技術(shù)性特征之間的耦合度增加創(chuàng)造性。也可能當(dāng)前的技術(shù)問題只適用于80%的場景,IPR引導(dǎo)優(yōu)化技術(shù)方案解決剩余場景下的技術(shù)問題,形成優(yōu)化后的技術(shù)方案。
(4)弱化技術(shù)邏輯
技術(shù)問題和技術(shù)方案之間的邏輯關(guān)系對(duì)創(chuàng)造性有很大影響,IPR引導(dǎo)弱化技術(shù)問題和技術(shù)方案之間的技術(shù)邏輯關(guān)系,可以通過調(diào)整技術(shù)手段之間的邏輯關(guān)系,技術(shù)特征之間的組合關(guān)系減少技術(shù)問題到技術(shù)方案的必然性。
三、從>0.5到1
這類專利提案是通過不斷的對(duì)研發(fā)人員進(jìn)行專利思維熏陶后期望達(dá)到的效果,但是針對(duì)這一類型的案件,IPR其實(shí)有更具有挑戰(zhàn)性的工作開展。
(1)專利還是技術(shù)秘密
IPR需要考慮該專利提案采用專利保護(hù)還是商業(yè)秘密保護(hù)的合理性,對(duì)于難以反向工程獲知、技術(shù)開發(fā)難度大、侵權(quán)取證相對(duì)困難的技術(shù)方案傾向于采用技術(shù)秘密保護(hù),對(duì)于容易通過反向工程或自主研發(fā)獲知、固定侵權(quán)證據(jù)相對(duì)直接的技術(shù)方案傾向于采用專利申請(qǐng)保護(hù)。
(2)侵權(quán)可視性和侵權(quán)匹配度
對(duì)于有訴訟可能性的重要專利,IPR在宏觀上需要考慮當(dāng)前的技術(shù)問題-技術(shù)方案-技術(shù)效果的脈絡(luò)的侵權(quán)可視度如何,與侵權(quán)產(chǎn)品的匹配度如何,微觀上需要考慮侵權(quán)主體、專利權(quán)保護(hù)范圍的確定、技術(shù)特征如何劃分、侵權(quán)判定規(guī)則等,基于這些考量優(yōu)化專利提案。
(3)侵權(quán)主題和侵權(quán)場景
對(duì)于有訴訟可能性的重要專利,需要分析當(dāng)前的技術(shù)方案是否涵蓋行業(yè)內(nèi)的應(yīng)用場景和實(shí)施主體,研發(fā)人員提出的技術(shù)問題有時(shí)比較具體化、內(nèi)部化,而具體化、內(nèi)部化的技術(shù)問題可能無法對(duì)應(yīng)到實(shí)際的應(yīng)用場景和實(shí)施主體,這時(shí)IPR應(yīng)該引導(dǎo)進(jìn)行由內(nèi)到外、由具體到泛化的轉(zhuǎn)化過程,以期能涵蓋侵權(quán)主體和侵權(quán)場景。
(原標(biāo)題:從IPR的角色角度談專利挖掘)
來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)
作者:史珍珍
編輯:IPRdaily王穎 校對(duì):IPRdaily縱橫君
注:原文鏈接:從IPR的角色、角度,談專利挖掘!(點(diǎn)擊標(biāo)題查看原文)
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